일반기술

전기적 마이크로콘택 프린팅

본 기술은 데이터 저장 장치와 나노 제로그래피와 같은 소정의 특정 패턴들로 다른 물질을 수용하는 표면을 제공하는데 사용된다. 마이크로콘택 프린팅 스탬의 변형체가 일렉트렉트 기판 상에 전하 패턴을 형성한다. 본 기술은 20초 이내에 110 나노미터 내지 100 마이크로미터 크키의 다수의 전하로 1평방센티미터의 영역의 기판을 덮음으로써, 광학 컴팩트 디스크보다 140배 이상 큰 7 Gbits/sq.cm에 이르는 면적 밀도를 제공할 수 있다. 이러한 트랩핑된 전하 패턴은 비트들을 기록하거나 소거할 수 있는 장점을 가지고 있는 비활성 디지털 저장 메모리로써 기능을 할 수 있다.본 기술은 20초 이내에 약 100 마이크로미터에서 100 나노 크키의 다수의 전하로 1cm2의 기판을 덮음으로써, 광학 방식을 사용하는 기존의 컴팩트 디스크(CD)보다 140배 이상 큰 면적 밀도를 제공할 수 있음을 특징으로 한다. 이러한 트랩핑된 전하 패턴은 비트들을 기록하거나 소거할 수 있는 장점을 가지고 있는 비활성 디지털 저장 메모리로써 기능을 할 수 있다. 본 기술은 붕소가 도핑된 실리콘 웨이퍼 상에 80 nm의 폴리층(메틸메타아키릴레이트층)을 이루어진 일렉트렉트 표면으로 인하여, 5 Gbits/sq.cm의 밀도에서 150 nm의 지름을 가지는 트랩핑된 전하들이 적어도 3주동안 지속될 수 있다. 본 기술은 또한 기판 상에 패터닝된 전하들이 소정의 패턴으로 단백질과 같은 다른 물질의 형성을 가이드하는 데 사용될 수 있다.