일반기술

3차원으로 광도파로 및 광학장치를 제조하기 위한 방법

본 기술은 증폭되지 않은 펨토초 레이저를 이용하여 투명 물질 내에 점열원을 형서하여 3차원으로 도파로와 광학소자를 직접 라이트하는 방법을 제공한다. 기존에는 레이저 발진기로부터 출력되는 초단파 펄스는 물질 내에 조밀하게 포커싱되어, 가열이 국부적으로 되며 물질 전체에서 굴절률이 변하게 된다. 본 기술은 증폭되지 않은 레이저를 사용하여 장비에 드는 비용을 줄일 수 있으며 공정을 쉽고 신뢰성 있게 사용할 수 있다. 또한, 레이저 발진기를 사용하여, 증폭된 레이저로 달성할 수 있는 것보다 더 높은 매칭 속도를 얻을 수 있다.본 기술은 증폭되지 않은 레이저를 사용함으로써, 비용을 절감할 수 있고, 레이저 발진기를 사용함으로써, 높은 매칭 속도를 얻을 수 있는 기술에 관한 것이다. 본 기술은 열유도 굴절률 변화의 메커니즘으로 인한 누적 열효과를 이용할 수 있도록 한것을 특징으로 한다. 더 많은 펄스들이 단일점에 인가될수록 온도가 상승한 물질의 부피가 증가됨에 따라, 변화된 굴절률을 가지는 물질의 부피를 증가시키게 된다. 따라서, 최소 배선폭을 레이저의 초점에 의해 결정하는 기존의 기술과는 달리, 본 기술은 작업자가 각 최소 배선폭을 결정할 수 있는 등 다수의 장점을 가지고 있다.