일반기술
자기 마이크로구조를 제조하는 방법
본 기술은 마이크로 스케일 및 나노 스케일의 자기 구조를 간단하고 저가로 제조할 수 있는 방법을 제공한다. 이러한 마이크로구조는 마이크로 전기기계 장치(MEMS: microelectromechanical device)에 응용할 수 있다. 기존의 기술은 자기 구조를 MEMS에 적용하기 어려웠다. 마이크로구조는 분산된 자기 나노 입자들에 의해 만들어진 본질적으로는 중합체이다. 이러한 마이크로구조는 조정되는 매체인 하부 기판보다 포토레지스터인 것을 점을 제외하고는 표준 포토리소그래피 기술을 이용하는 분산된 나노 입자들을 포함하는 포토레지스터로 만들어진다.일반적으로 자기 구조를 MEMS에 적용하기란 매우 용이하지 않은 문제점이 있었다. 마이크로구조는 분산된 자기 나노 입자들에 의해 형성된 중합체이다. 이러한 마이크로구조는 표준 포토리소그래피 기술을 이용하여 포토레지스터로 만들어진다. 본 기술에 의한 자기 나노 입자들은 빛의 파장보다 훨씬 작은 지름을 가지고 있어서 완전하게 광을 변화시키는 레지스터와 구조적으로 안정된 구조를 가짐을 특징으로 한다. 본 기술의 일예로써, 자기 캔틸레버 상의 마이크로 미러들은 외부 자석과 함께 조절 가능하게 이동가능하다. 이러한 기술을 이용하여 마이크로 스케일 및 나노 스케일의 자기 구조를 간단한 공정과 저가로 제조하여 MEMS 장치에 유용하게 적용할 수 있는 장점이 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
- 보유기관
- (주)피앤아이비
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2005-07-20
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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