일반기술
원통형 중성자 발생기
본 기술은 동축 RF 구동 플라즈마 이온소스를 이용하여 고전류 밀도를 가지고 원자 듀테륨이나 트리튬 이온종을 생산하는 콤팩트한 원통형 중성자 발생기에 관한 것으로, 이 원통형 중성자 발생기에는 동축 RF 구동 플라즈마 이온 소스와 타겟이 형성되어 있다. 듀테륨 플라즈마는 RF안테나를 사용하는 원통형 이온 발생기에서 RF여자에 의해 생성된다. 원통형 중성자 발생 타겟은 이온발생기와 동일한 축상에 위치되며, 많은 슬롯을 포함하는 플라즈마와 추출전극에 의해 분리된다. 플라즈마와 추출전극들은 이온소스가 나가는 이온들의 경로를 정전제어(electrostatic control)한다. 이들 전극들은 원주를 따라 긴 슬롯을 구성함으로써 이온들이 360도 패턴에서 소스밖으로 방출된다.본 기술에 따른 상기 플라즈마 발생기는 중심부와 외부의 중성자 타겟내에 위치하거나, 외측 및 내측의 중성자 타겟상에 위치될 수 있으며, 중첩된 배열에서, 여러개의 원심 타켓과 플라즈마 발생 지역들은 중성자 플럭스를 증가시킨다. 또한, 3개의 측정체계를 갖는 동축 중성자발생기를 이용하므로 종래의 소형 중성자 발생기보다 중성자 생성을 증가시킬 수 있고, 이온소스와 타겟층이 중성자 생성을 증가시키기 위해 중첩될 수 있다. 특히, 본 기술은 방사성 중성자를 제조하는데 유용하다.
기술정보
- 기술분류
- 물리학 > 가속기 / 빔물리 (P74, R14)
- 보유기관
- (주)피앤아이비
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2005-07-20
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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