일반기술
규소 기술용 조합식 저온 광자 협조식 공정
규소 기술용 조합식 저온 광자 협조식(광화학/광자 유도식/광자 여기식) 건식 공정을 개발하였다. 오늘날 규소 기술분야의 경향은 처리온도의 감소와 표면 세척/변경과 박형 필름 침전용 기상(gas-phase) 기법의 개발이다. 전통적으로, 습식 화학적 기질 전처리와 플라즈마 유도식 공정은 장치 기술에 널리 사용한다. 그러나, 습식 전처리 절차는 적정처리 환경뿐만 아니라 높은 순도의 화학물질과 탈이온식 용수를 요한다. 규소 기질의 표면을 손상시킬 수 있는 고에너지 이온은 플라즈마 공정에서 생산된다. 건식 공정은 대기와의 표본(규소 기질) 접촉을 장치형성의 모든 단계에서 제외할 수 있는 진공 표본 전달 시스템을 사용하여 전문화된 모듈로 실행할 수 있다.저온에서의 기질 청소, 변경과 기능층 침전에 관한 기체상 유일 공정을 조합하도록 허용하는 규소 기술용 장치의 개발.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 전자부품
- 보유기관
- 특허법인충정
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2000-04-24
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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