일반기술

전자 및 이온빔의 포커싱 시스템

본 기술은 전자빔 및 이온 시스템에 관한 것으로 더욱 상세하게는 플라즈마 이온소스에 기초한 전자빔 및 이온 시스템에 관한 것이다. 여기서의 상기 이온 소스는 무선 주파수 유도 방전에 의해 형성된 플라즈마를 가진 소형 챔버이다. 본 기술은 소형 챔버와, 상기 챔버 내측에 플라즈마를 발생시키기 위해서 상기 챔버의 외부둘레에 감겨진 RF안테나와, 상기 챔버내에 감금된 플라즈마에 대한 솔레노이드 B-필드를 제공하기 위하여 RF안테나 위의 챔버 외측에 감겨진 코일에 제공되는 교류전류와, 챔버 내측의 플라즈마로부터 추출된 이온빔 또는 전자빔을 가속화하기 위한 소형 가속 및 촛점 칼럼을 포함한다. 상기와 같이 구성된 본 기술에서 전자는 플라즈마 이온소스 예를들면 다중 플라즈마 이온소스의 플라즈마 음극으로부터 추출된다. 상기 빔은 x, y 양방향에서 주사될 수 있으며, 상기 시스템은 다중의 소형 빔을 가지고 작동될 수 있다.본 기술은 초점이 맞춰진 이온 또는 전자빔 시스템은 플라즈마 이온 소스와 정전형 빔 가속 및 초점 칼럼을 구비하되, 상기 RF안테나가 챔버 외측에 감겨져 RF공급기에 연결됨으로써, 이온 또는 전자는 상기 소스로부터 용이하게 추출될 수 있을 뿐만 아니라, 다른 종의 여러 가지 소스와 전자빔 소스를 가지는 다중빔을 추출할 수 있다. 또한, 긴 라이프타임을 가지고. 쉽게 설치가 가능하여 플라즈마 챔버 벽상에 낮은 스퍼터링을 형성할 수 있으며, 소형화된 이온소스를 디자인할 수 있다.