일반기술
포토닉스 크리스탈 캐비티에서 전자기 유도 투과의 이용
본 기술은 포토닉스 크리스탈 캐비티에서 비선형 매질로써 EIT(electro-magnetically induced transparency)를 이용하는 포토닉스 크리스탈 시스템에 관한 것으로써, 대부분의 비선형 광학장치에서 보다 매우 작은 크기의 전력으로 동작하는 새로운 비선형 감도를 가지는 장치를 얻을 수 있다. 본 기술은 EIT에만 한정되지 않으며 어떠한 종류의 캐비티 양자전기역학도 이용할 수 있다. 본 기술은 또한 포토닉스 크리스탈의 비선형 특성을 증대시키기 위해 EIT를 나타내는 물질로 도핑된 포토닉스 크리스탈의 내부에 마이크로 캐비티 구조를 형성하는 방법을 제공한다.매우 큰 광학 비선형성이 중요한 역할을 하는 응용분야는 양자정보 및 양자계산의 분야이다. 주변환경과 최소한의 상호작용과 많은 매질에서 낮은 흡수 손실로 인하여, 광자들은 양자정보를 원거리까지 운반할 수 있는 가장 바람직한 캐리어이다. 양자정보는 한 시스템에서 다른 시스템으로 (양자에서 전자로) 전송될 수 있지만, 이와 같은 전송은 매우 어렵다. 이를 해결하기 위해, 단일의 양자 전력레벨로 유발될 수 있을 정도로 층분히 큰 비선형효과를 가져야만 한다. 낮은 디코헤어런스 속도로 인해 광자는 또한 양자계산을 구현하는 데 바람직한 방법이다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 광전자
- 보유기관
- (주)피앤아이비
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2005-07-20
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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