일반기술

이온빔 스퍼터링을 이용한 대면적 합금 반사박막 제작용타겟홀더

본 고안은 합금 박막을 웨이퍼에 증착할 시 웨이퍼가 면적이 넓어도 호환성있게 증착시킬 수 있으며 저비용으로 제작이 가능한 이온빔 스퍼터링을 이용한 대면적 합금 박막 제작용 타겟홀더를 제공코자 하는 것이다. 즉, 본 고안은 증착기의 일측에 특정 이온빔을 가속시킬 수 있는 가속기가 설치되고, 상기 가속기를 통하여 가속된 이온빔이 주사되는 좁쌀크기의 그래뉼형 원소입자를 사용한 타겟물질이 부착된 타겟이 타겟홀더상에 회전가능하게 설치된 이온빔 스퍼터링을 이용하는 합금 박막 제작용 타겟홀더에 있어서, 상기 타겟 스핀들은 모터의 원동축과 직결되어 회전구동되며, 상기 타겟이 설치되는 타겟홀더의 스핀들상에는 기어를 축고정하여 정역구동 및 소정 회전수 조절이 가능한 틸팅모터의 원동축상에 축고정된 기어와 기어물림토록 하여 타겟홀더에 회전 가능하게 설치된 타겟이 틸팅되면서 대면적의 웨이퍼에 타겟물질이 호환성있게 증착될 수 있도록 하며, 상기 스핀들을 통하여 냉각수가 타겟홀더상의 냉각장치로 공급될 수 있도록 한 것으로서, 본 고안의 타겟홀더는 소정 각도로 틸팅이 이루어지도록 하고, 타켓을 회전 원동시켜 고른 조성으로 합금을 증착코자 하며 피착재인 웨이퍼의 면적이 넓은 경우라도 호환성 있게 스퍼터링 증착이 가능도록 작업능률을 극대화할 수 있으며, 저비용으로 설치가 가능하여 경제성도 우수한 등 다수의 이점을 제공할 수 있는 것이다.증착기의 일측에 특정 이온빔을 가속시킬 수 있는 가속기가 설치되고, 상기 가속기를 통하여 가속된 이온빔이 주사되는 좁쌀크기의 그래뉼형 원소입자를 사용한 타겟물질이 부착된 타겟이 타겟홀더상에 회전가능하게 설치된 이온빔 스퍼터링을 이용하는 합금 박막 제작용 타겟홀더에 있어서; 상기 타겟 스핀들은 모터의 원동축과 직결되어 회전구동되며, 상기 타겟이 설치되는 타겟홀더의 스핀들상에는 기어를 축고정하여 정역구동 및 소정 회전수 조절이 가능한 틸팅모터의 원동축상에 축고정된 기어와 기어물림토록 하여 타겟홀더에 회전 가능하게 설치된 타겟이 틸팅되면서 대면적의 웨이퍼에 타겟물질을 호환성있게 증착될 수 있도록 하며, 상기 스핀들을 통하여 냉각수가 타겟홀더상의 냉각장치로 공급될 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 이온빔 스퍼터링을 이용한 대면적 합금 반사박막 제작용 타겟홀더.