일반기술

광민감성을 이용한 평판형 도파로 광소자 제작방법

본 발명은 광도파로 소재의 광민감성을 높이고 자외선 레이저광을 이용하여 평판형 광소자를 제작하는 기술에 관한 것이다. 본 발명은 광분배기, 광결합기, WDM 광소자, 광스위치 등 평판형 광도파로 수동소자 및 광증폭기와 같은 능동소자를 제작하는데 있어 종래의 도파로 제작방법인 증착 및 식각 공정을 대폭 줄일 수 있고, 공정중의 이물질 인입과 결정상 형성되는 등의 문제점을 해결할 수 있으며 상부 클래드층을 열처리한 후 도파로 형성에 따른 코어 영역의 확산 및 코어의 굴절률 변화 등의 문제점을 해결할 수 있다. 결과적으로, 광도파로 제작 공정수를 줄이고 재현성을 향상시켜 광도파로의 전송효율과 특성을 효과적으로 개선할 수 있다.평판형 도파로 광소자 제작방법에 있어서, 실리콘 혹은 실리카 기판, 알루미나 기판 상면에 에어로졸 화염가수분해증착(AFD)으로 하부 클래드층을 형성시키는 하부 클래드층 형성공정과, 상기 하부 클래드층 상면에 에어로졸 화염가수분해증착(AFD)으로 수 MOL% 이상의 게르마늄(GE) 또는 게르마늄과 희토류원소(ER, YB, NB 등)가 첨가된 다성분계 산화물박막의 코어층을 형성시키는 코어층 형성공정과, 상기 코어층 상면에 에어로졸 화염가수분해증착(AFD)으로 상부 클래드층을 형성시키는 상부 클래드층 형성공정과, 상기 코어층의 게르마늄(GE)과 UV선 간의 광민감성을 증가시키기 위해 증착 박막을 온도와 압력에 따라 수소처리하는 수소처리공정과, 수소 처리된 상기 상부 클래드층 상면에 포토마스크와 시준된 UV선을 조사하여 광도파로를 형성하는 광도파로 형성공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 광민감성을 이용한 평판형 도파로 광소자 제작방법.