일반기술
나노 인프린트용 몰드
■나노 인프린트용 몰드 SiC, 석영, SiO2, Si, Ta 각종 재료의 나노 인프린트용 극 미세 몰드 제공 가능■석영제 나노 인프린트용 몰드,고해상 타입 NIM-80L RESO최소 치수 80nm! 미세하고 고정밀의 패턴을 제공가능■석영제 나노 인프린트용 몰드 고해상 타입 NIM-100D RESO 고해상 타입에 닷판 등장. 최소 치수 100nm! 미세하고 고정밀의 패턴을 제공가능■석영제 나노 인프린트용 몰드 표준 타입 NIM-PH시리즈 라인＆스페이스, 닷, 홀 패턴을 혼재하고 있어 실험용으로 최적- 기판:석영,CVD/Si, 단결정 SiC"ATa"ASi"ASiO2/Si"ASiN/Si- 기판형성:３ 또는 ４인치, 임의의 사이즈로 잘라 사용 가능- 최소치수:20nm- 높이:50nm 이상- 패턴 형성 면적:1mm-50mm角(제작 가능한 면적은 치수·높이에 의해 바뀌기 때문에 상담에 따라 제작)
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2005-10-13
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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