일반기술

중성빔발생장치를 갖춘 화학기상 증착장치

*원리 및 구성화학 기상증착(CVD:Chemical Vapor Deposition)에 사용되는 증착장치에 관한 것으로, 이온빔을 중성빔화하여 피처리기판에 조사하도록 된 중성빔발생장치를 갖춘 화학기상 증착장치에 관한 것이다. 반응가스를 플라즈마화하고, 반사체를 이용하여 중섬빔화한 후, 피처리기판에 조사로 이루어진다.*개발배경반사체를 구비하므로써 중성빔을 발생시킬 수 있고, 이러한 중성빔을 CVD공정에 적용할 수 있는 중성빔발생장치를 갖춘 화학기상 증착장치를 제공함에 있다.*중요성 및 독창성CVD 공정이 고온(또는 고에너지)에서 이루어지는 문제점에 따른 차징을 감소시키는 중성빔발생장치를 제공한다.*응용분야CVD공정에 적용할 수 있는 중성빔발생장치를 갖춘 화학기상 증착장치를 제공할 수 있다.*특징 및 장점-CVD 공정이 고온(또는 고에너지)에서 이루어지는 문제점에 따른 차징을 감소시키고, 종래 이온빔을 사용한 경우에 비해서 플럭스량 감소가 그리 크지 않아 대구경의 피처리기판의 CVD공정을 지장 없이 수행할 수 있으면서도, 차징이 현저하게 감소되는 효과가 있다.