일반기술
중성빔발생장치를 갖춘 물리적기상 증착장치
*원리 및 구성본 기술은 반응가스를 플라즈마화시켜 발생된 라디칼의 플럭스, 즉 이온빔을 중성빔화하여 피처리 기판에 조사하도록 된 중성빔 발생 장치를 물리적 기상 증착 중, 스퍼터링 및 진공증발에 사용하도록 된 중성빔 발생 장치를 갖춘 물리적기상 증착장치에 관한 것으로, 주입구를 통해 주입된 가스로부터 극성을 갖는 이온빔을 추출하는 이온소오스와, 상기 이온소오스의 한쪽 단부에 위치하며, 특정 극성의 이온빔을 가속시키는 복수개의 그리드홀이 형성된 그리드 어셈블리 및, 상기 그리드 어셈블리의 그리드홀에 대응하는 복수개의 반사체홀로 구성된다.*개발배경이온빔을 중성빔화하여 피처리 기판에 조사하도록 된 중성빔 발생 장치를 물리적 기상 증착 중, 스퍼터링 및 진공증발에 사용하도록 된 중성빔 발생 장치를 갖춘 물리적기상 증착장치를 제공함에 있다.*중요성 및 독창성반사체의 플럭스 입사면 크기에 비해 대구경의 피처리기판을 처리할 수 있는 반사체 구조를 제공하는 중성빔발생장치를 갖춘 물리적기상 증착장치를 제공 가능하다.*응용분야본 기술은 이온빔을 중성빔화하여 피처리 기판에 조사를 실시하는 물리적기상 증착장치에 응용가능하다.*특징 및 효과-반사체를 구비하므로써 중성빔을 발생시킬 수 있고, 이러한 중성빔을 물리적기상증착, 예컨대 스퍼터링에 적용할 수 있게 되는 효과가 있다. -반사체를 구비함으로써 중성빔을 발생시킬 수 있고, 이러한 중성빔을 물리적기상증착, 예컨대 진공증발에 적용할 수 있게 되는 효과가 있다.-반사체의 플럭스 입사면 크기에 비해 대구경의 피처리기판을 처리할 수 있는 반사체 구조를 제공하는 중성빔발생장치를 제공하는 장점이 있다.
기술정보
- 기술분류
- 기계 > 기타 기계
- 보유기관
- 대구기술이전센터
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2005-12-05
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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