일반기술
폴리비닐리덴 플루오라이드 표면의 초친수성 개질 방법
10~90eV의 초저 에너지와 0.5mW/cm2이상의 고에너지 밀도를 갖는 활성화 빔을 폴리비닐리덴 플루오라이드 표면에 조사하여 PVDF의 표면을 초친수성 표면으로 개질시키는 방법을 제공함. 짧은 시간 동안 표면 손상이 거의 없이 증류수에 대한 접촉각을 61deg 에서 2deg 미만으로 낮추어 PVDF 표면을 표면 에너지가 80 mN/m 이상인 초친수성 표면으로 개질시키는 방법을 제공함. 본 기술에 의해 개질된 PVDF 표면은 금속, 전도성 고분자, 투명 전극 물질 등에 대한 접착력이 증가하여 한외여과용 멤브레인, 수소 이온 전도성 폴리비닐리덴 불소수지 멤브레인의 친수성화 및 투명 연성 스피커 및 디스플레이와 스피커 일체형의 연성 청취가능 디스플레이(flexibal audio-video/audible display) 스피커 등에 응용 가능함.-. 처리시간이 1 sec 정도 밖에 소모되지 않아 기존의 이온빔 처리방식에 비하여 100 배 이상의 빠른 초고속 처리방식으로 생산성이 매우 높음-. 운동 에너지가 100 eV 미만의 초저 에너지와 05.mW/cm2이상의 고에너지 밀도를 가지며, 기존 기술에서 발생하는 표면에 손상이 거의 없음-. 처리 공정 시 양이온과 전자가 동시에 주입되어 일반적인 이온빔 처리시 발생하는 처리 기판 표면 위에 양이온 축적과 전자 방출로 인한 대전 형성이 원리적으로 방지됨
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 전기·전자기 기능재료
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2006-02-21
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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