일반기술

광 패턴 인식을 위한 유전 알고리즘/시뮬레이티드 어닐링 알고리즘 합성 필터 및 그 제어 방법

본 기술은 광 패턴 인식용 필터 중 유전 알고리즘(GA)과 시뮬레이티드 어닐링(SA) 알고리즘을 결합하여 설계한 광 패턴 인식을 위한 유전 알고리즘/시뮬레이티드 어닐링 알고리즘 합성 필터 및 그 제어 방법에 관한 것이다. 본 기술은 광패턴 인식용 필터를 GA/SA 의 알고리즘을 결합하여 나타내 어느 조건에서도 향상된 상관 특성을 얻을 수 있고 이진 필터 위상에서 나타나는 역상의 문제를 위상 필터에 8단계의 위상을 사용해 제거하여 높은 광 효율과 상관 능력을 나타낸다.기존의 광 패턴 인식 시스템은 상관면에서 신호 대 잡음비가 현저히 떨어지는 단점을 지니고 있고 주어진 상황과 조건 하에서만 향상된 상관 특성을 갖는다는 문제점이 있다. 그러나 본 기술은 위상 필터에 여러 단계, 특히 8단계의 위상을 사용하고, GA 알고리즘과 SA 알고리즘을 결합하여 필터를 설계해 이를 해결한다. 본 기술은 필터 생성부에서 랜덤함수에 의해 결정되는 다수의 셀의 위상값이 비슷한 패턴을 갖는 N개의 필터 집단을 생성하고 온도 설정부에서 초기 온도를 설정한 후 재생부에서 재배열을 위해 필터 생성부로부터 생성된 N개의 필터 집단의 적합도를 각각 판정한다. 그리고 필터 교차부에서 재생부를 통해 재배열된 필터들을 교차시키고 온도 설정부에서 설정된 초기 설정 온도를 감소시킨 후 랜덤치 선택부에서 필터 교차부에 선택된 필터의 초기치에 대한 랜덤 인접치를 선택한다. 계산부에서는 랜덤치 선택부에서 선택된 초기치와 인접치의 에너지 차 및 상태천이확률을 계산하고 비교부에서 초기치 값의 변경을 위해 계산부를 통해 계산된 값을 특정값과 비교한다. 변종 처리를 실시하기 위해 변종 처리부에서는 랜덤치 선택부에서 계속 감소되는 온도값을 최종 온도값과 비교하는 특징이 있다.