일반기술

CVD를 이용한 고속/고효율 이리듐 코팅 기술의 개발.

사실상 세계 전 지역에서는 필요한 수자원의 부족으로 고통받고 있다. 이와 같이 과량 혹은 다량의 광물을 함유하는 물의 생산에 관한 복합적인 문제는 수 처리에 전기투석 기술을 응용함으로써 해결할 수 있을 것이다. 그동안 전기투석 기술을 도입하지 못했던 이유는, 많건 적건 염을 함유한 물을 정수할 때 전극이 급속도로 부식되는 현상 때문이었다. 여러 종류의 전기분해장치 및 전기투석기에 고가의 백금 코팅 전극 대신 이리듐으로 코팅된 전극을 사용할 수 있게 됨에 따라, 성능은 그대로 유지하면서 장치에 소요되는 비용을 크게 줄일 수 있게 되었다. 본 프로젝트가 독창성을 인정받는 주요한 이유는 티타늄 전극 표면에 이리듐을 코팅할 때 CVD(화학증기침전) 기법을 도입했기 때문이다.이 프로젝트를 성공적으로 수행함으로써, 수처리 및 탈염처리용 전기투석 시스템의 전극을 이리듐 코팅 처리하기 위한 전혀 새로운 기술을 개발할 수 있다.