일반기술

티타늄과 백금의 멀티레이어를 매스킹 물질로 이용한다공질 실리콘 형성방법

* 원리 및 구성 반도체 소자의 제조에 있어서 티타늄과 백금의 멀티레이어를 매스킹 물질로 이용하여 기판의 특정한 영역에만 다공질 실리콘을 만들 수 있게 하여 매스킹과 전극으로 동시에 사용하는 섀도우 마스크의 사용을 배제할 수 있어 공수를 줄이고 품질의 저하를 방지하는 다공질 실리콘 형성방법을 제시한다. 단결정 실리콘 기판에 산화막을 성장시키고 기판 하부의 산화막을 식각하여 알루미늄을 증착하고 활성화하여 전극을 만든다. 기판 상부에 포토레지스터를 코팅하고 현상하여 기판 상부에 티타늄과 백금을 순서대로 증착하고 리프트오프 공정으로 금속을 패터닝하고 어닐링을 실시하여 다공질 실리콘이 형성될 영역의 산화막을 식각한다. 또한 양극산화반응으로 불산과 에탄올의 혼합용액 속에서 다공질 실리콘을 성장시켜 티타늄과 백금의 멀티레이어를 매스킹 물질로 이용한 다공질 실리콘을 만든다.* 개발 배경 통상적으로 다공질 실리콘을 불산 혼합용액 속에서 선택적으로 형성할 때 질화막을 매스킹 물질로서 사용하는데, 이들을 패터닝 하기 위해서는 건식 식각 공정이 필요하며 알루미늄 전극을 사용하면 증착 및 식각 공정에서 다공질 실리콘의 특성에 영향을 줄뿐만 아니라 공정수가 증가한다.* 적용제품 및 경쟁제품 본 기술은 기판의 특정한 영역에만 다공질 실리콘을 형성함에 따라 매스킹과 전극으로 동시에 사용하고 섀도우 마스크의 사용을 배제할 수 있어 공수를 절감하고 품질의 저하를 방지하는 티타늄과 백금의 멀티레이어를 매스킹 물질로 이용한 다공질 실리콘 형성방법이다.* 주요 적용 제품- 다공질 실리콘 형성* 특징 및 장점- 다공질 실리콘 형성 시 공수를 줄이고 품질의 저하를 방지할 수 있다.