일반기술

저 유전자상수값을 가지는 고분자 필름의 제조방법

고분자 필름에 대한 제조방법의 기술중 하나로 제작한 본 기술은 고분자 필름에 고에너지 이온을 주입하여 제조된 저 유전상수 필름 및 그 제조방법에 관한 것으로, 상용화된 고분자 필름에 입자 가속기를 이용하여 0.1 keV 이상의 고에너지 이온을 1011 ions/㎠ 이상의 밀도로 주입하여 제조된 저 유전상수 필름은 가속된 이온의 에너지를 조절하여 이온의 투과깊이를 조절함으로써 제작하고자 하는 저 유전상수 필름의 두께 조절이 가능하며 이온의 에너지와 이온 주입 밀도를 조절하여 유전상수의 값을 조절할 수 있으므로 금속간유전물질(IMD)의 제작이 가능하여 전자 산업상 매우 뛰어난 효과가 있다. 전자 산업에서의 큰 획기적 발전상을 가져올 것으로 기대되어 진다. 본 발명의 특징은 전자 산업에서의 고분자 필름의 제조방법으로서 폴리(비닐리덴시아나이드){POLY(VINYLIDENE CYANIDE)}와 폴리아크릴로나이트릴(POLYACRYLONITRILES)을 포함하는 시안기(CN GROUP)를 가지는 고분자(CYANOPOLYMERS)와 비닐리덴 시아나이드(VINYLIDENE CYANIDE)를 포함하는 공중합체(COPOLYMER), 폴리(비닐리덴 플루오라이드-테트라플루오로에틸렌) 공중합체{POLY(VINYLIDENE FLUORIDE-TETRAFLUOROETHYLENE) COPOLYMER}, 및 나일론 7, 나일론 11을 포함하는 홀수번의 나일론(ODD-NUMBERED MEMBERS OF NYLON)으로 이루어진 그룹에서 선택되는 어느 하나의 단일결합으로 이루어진 강유전체 고분자에 0.1 KEV 내지 100 MEV의 에너지를 가지는 이온을 1012 내지 1014 IONS/CM2의 밀도로 주입하는 것을 특징으로 하는 저 유전상수값을 가지는 고분자 필름의 제조방법이다. 앞으로 다른 경쟁적인 것보다 밀도의 주입에 큰 관심과 경쟁력을 제고 할 수 있을 것으로 판단된다.