일반기술

레이저 직접묘화법에 의한 전도성패턴 제작

본 기술은 비전도성 기판 상에 전도성 패턴을 형성하는 방법으로서 기존의 스크린 프린팅과 리소그라피(lithography) 방법을 대체하기 위한 방법이다. 이는 레이저 직접 묘화법을 유전체 기판에 패턴을 만든 후 무전해도금법을 이용하여 니켈 전도성 미세패턴을 형성하는 방법으로서 Flexible PCB, RFID 와 같은 Flexible 장치 및 세라믹기반의 센서의 제작에 용이하게 적용되는 기술이다.본 기술은 기존의 리소그래피 공정을 대체할 수 있는 신공정 기술로서 부도체상에 전도성 패턴을 형성시키는 공정을 특징으로 하는 기술이다. 이는 수십 ㎛ 범위의 패턴 제작에 유연성 있고 경제적으로 적용할 수 있는 방법으로서 현재 고가의 박막(Thin-film Technology)과 후막기술(Thick-film Technology)의 중간 적용영역인 10㎛에서 100㎛사이의 패턴 제작에 적용할 기술로 판단된다. 본 기술은 폴리머 및 세라믹과 같은 비전도성 기판 상에 전도성 패턴을 형성시키는 방식으로 비전도성 기판의 표면에 레이저를 조사하여 설정된 패턴의 홈을 형성하는 홈 형성 단계, 홈이 형성된 비전도성 기판의 표면에 전도성 물질을 도포하는 단계, 전도성 패턴이 형성되도록 상기 도포된 전도성 물질을 연마하는 단계 및 무전해 도금을 통하여 전도성 패턴을 형성시키는 단계로 이루어져 있다.이와 같은 전도성 패턴 형성방법은, 레이저 어블레이션을 이용한 직접 묘화법을 사용함으로써, 진공과정, 마스크, 및 PR이 없이 전도성 패턴을 형성할 수 있다. 결과적으로, 공정수를 줄일 수 있고, 제품생산의 유연성, 경제성, 가공수율, 내구성 및 정밀도를 높일 수 있는 장점이 있다. 현재의 전세계 산업 동향(레이저 응용 미세가공분야의 세계 시장규모: 2004년 44억불, 2010년 86억불)에 비추어 볼 때 레이저 미세가공의 전세계적 수요는 계속적/폭발적 신장세를 보일 것으로 예측됨.(Laser Focus World 2003, 2) 본 기술은 폴리머 및 세라믹과 같은 비전도성 기판 상에 전도성 패턴을 형성시키는 방식으로 비전도성 기판의 표면에 레이저를 조사하여 설정된 패턴의 홈을 형성하는 홈 형성 단계, 홈이 형성된 비전도성 기판의 표면에 전도성 물질을 도포하는 단계, 전도성 패턴이 형성되도록 상기 도포된 전도성 물질을 연마하는 단계 및 무전해 도금을 통하여 전도성 패턴을 형성시키는 단계로 이루어져 있다.