일반기술

국부 전기화학석출법을 이용한 치밀한 품질의 높은종횡비의 미세구조물을 제조하는 방법

* 기존의 기술 두 전극사이의 기준 전류값을 정해 놓고 전극사이에 그 이상의 전류가 흐르게 되면 미세전극과 구조체간의 거리를 분리시키는 방법(미세전극과 구조체간의 접촉을 허용)을 이용하여 미세구조물을 제조하는 기술이었다.그러나, 이러한 종래의 기술들은 미세전극과 구조체간의 접촉을 허용하기 때문에 다공성의 구조체가 만들어 진다는 문제를 가지고 있다. 또한 구조물이 많은 기공을 갖게 되면 전기적으로는 저항이 높아지게되고 구조적으로는 강도가 낮아진다는 단점을 갖고 있었다.* 개요 및 독창성1) 기존의 문제점을 개선하고자 치밀성이 있고 높은 종횡비를 갖는 미세 금속구조물을 신속하게 제조하는 방법을 제공한다.2) 국부전기화학석출법(LOCALIZED ELECTROCHEMICAL DEPOSITION)을 이용한 높은 종횡비(텔레비전이나 영화화면의 세로와 가로 크기의 비율)를 갖는 3차원의 매우 가늘고 작은 물체를 제조한다.*특징 및 장점1) 전도성 미세(매우 가늘고 작은) 전극을 간격 형성을 위해 전도성 기판 표면부근에 위치시키는 단계2) 전도성 미세전극과 전도성(전기가 옮겨지는 성질)의 기본적인 판의 표면이 접촉하도록 전기화학적 매체를 도입하는 단계3) 3차원 물체를 분리하기 위하여 전기화학적 매체를 가로질러 전기적 비율을 허락하는 단계 4) 전도성 전극과 3차원 물체사이의 최적 거리를 선정하는 단계5) 가장 알맞은 작업이 되어 가는 정도의 조건 아래에서 뽑아진 미세 전극과 3차원 물체사이의 거리를 일정하게 유지 6) 전도성 전극을 이동시키는 단계를 포함한다.7) 미세전극과 3차원 물체사이의 최적거리는 코우히어런트 X-선을 이용한 미세 방사(빛이나 열 에너지를 내뿜는 것)학적 장치를 이용하여 확인되며, 전도성 전극의 위치조절은 방향 전동기에 의해 행해진다.