일반기술

노즐 구조체

*원리 및 구성노즐공을 통하여 분사되는 유체의 분사압력이 일정하도록 개량된 노즐 구조체의 축압수단은 선단에 유체가 분사되는 노즐공과 중공의 하우징을 가지며, 중공을 지나는 일부 유체가 저장되고, 유체가 설정된 압력 이하로 분사될 때 다시 저장된 유체를 공급한다. 축압실에는 하우징의 한 쪽에서 중공과 통하도록 분기공이 형성되고, 축압 벨로우즈는 분기공을 통하여 유입되는 유체를 수용하여 수축 및 확장이 가능하도록 주름부를 가진다.*개발배경산업용 노즐은 각종 부품을 생산하여 조립하기 전에 각종 이물질을 제거하여 생산품의 품질을 향상시키도록 물 또는 에어를 분사하여 오염된 부품을 세척 및 세정하는 경우에 사용된다. 이러한 세정/세척작업 중 반도체 웨이퍼 경우에는 정밀하고 균일한 두께로의 세정작업이 이뤄져야 하므로, 노즐에서 일정한 압력으로 세정유체가 분사되어야 한다. 그러나 일반적으로 세정유체를 압송하는 펌프의 진동 또는 외력 등에 의해 세정유체가 일정한 압력으로 분사되지 않아 정밀한 가공이 어려웠다.*중요성 및 독창성본 기술의 노즐 구조체는 노즐하우징의 한 쪽에 설정된 압력 이상으로 공급되는 유체의 일부를 일시 저장시키고 설정된 압력 이하로 유체가 공급될 때 저장되었던 유체압을 보충토록 하는 축압 수단을 구비하여, 노즐공을 통한 분사압력이 일정하도록 한다. 따라서 이러한 노즐 구조체를 이용하면, 정밀한 부품을 생산하는 공정의 품질성을 향상시키고 신뢰도를 높일 수 있다.또한, 댐핑실린더 및 댐핑피스톤을 적용하여 스프링의 탄성변형을 이용함으로서, 미세진동 및 외부진동을 감쇠시킬 수 있으며, 축압실의 용적이 급속하게 변화하는 것을 방지한다. 따라서 축압실에 출입되는 유체압이 안정적으로 유지되도록 하여 분사압력을 균일하게 할 수 있다.*적용제품본 기술의 노즐 구조체는 호스나 파이프 등에 조립하여 물 또는 에어를 고압으로 분사함으로서, 오염된 제품을 세척 및 세정하거나, 고압분사에 의한 절단작업을 위한 기기의 조립품으로 활용될 수 있다.또한 일정한 압력으로 분사가 가능하므로, 반도체나 정밀 부품들을 가공하기 위한 분사기기의 조립품으로 사용될 수도 있다.*특징 및 장점- 일정한 압력으로 유체가 분사되도록 한다.- 정밀 부품의 생산 공정에서 생산되는 품질의 수준을 향상시킨다.- 정밀한 부품의 생산 공정의 신뢰도를 높인다.- 미세 진동 및 외력 등이 있더라도 분사 압력에 대한 영향을 감쇠시킨다.