일반기술

Х-선 조사에 의한 무전해 도금 방법

본 발명은 무전해 도금 방법으로서, 금속염과 환원제의 수용액 내에 피처리물을 담그고, 상기 수용액에 X-선을 조사하는 것을 특징으로 한다. 여기에서, X-선은 고투과 X-선으로서 방사광 X-선이다. 피처리물은 적어도 표면이 촉매성이거나 또는 비촉매성이어도 무방하다. 본 발명의 무전해 도금 방법은 피처리물이 비촉매성일지라도 50℃ 이하의 저온에서 특히 상온에서도, 별도의 활성화 과정 없이, 도금이 수행될 수 있다.무전해 도금 방법으로서,금속염과 환원제의 수용액 내에 피처리물을 담그고, 상기 수용액에 X-선을 조사하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 방법.무전해 도금은 외부로부터 전기 에너지를 공급받지 않고, 용액 내에 존재하는 금속이온과 환원제 사이에 화학반응을 일으켜 그 결과로 피처리물 표면에 금속 을 도금하는 기술이다. 용액 내에는 주요 성분으로 금속(합금을 포함하는)염과 환원제를 함유하고, 기타 착화제, 촉진제 또는 안정제가 첨가된다. 무전해 도금의 반응식은 다음과 같다.피처리물 표면M z+solution + Red solution -----------------------→ M lattice + Ox solution여기서, M z+solution 는 용액 내 원자가가 z+인 금속 이온을, Red solution 는 용액 내 환원제를 Ox solution 는 환원제 Red의 산화 생성물을 나타내며, M lattice 는 피처리물 표면에 도금되는 금속을 나타낸다. 이때, 환원제는 전자의 공급원으로서 촉매인 피처리물 표면과 금속이온 M z+ 에 전자를 제공하여 금속 M lattice 의 도금을 가능하게 한다.이와같이, 기존의 무전해 도금에서는 도금시키고자하는 피처리물의 표면이 촉매 기능이 있어야만 가능하다. 만일, 피처리물의 표면이 촉매 기능을 갖지 않는 다면, 즉 비촉매인 경우에는 별도로 그에 촉매 기능을 부여하여야만 한다. 이와 같은 촉매 기능의 부여를 활성화(activation)라고 하며, 활성화는 하나 또는 그 이상의 추가 공정을 필요로 한다.그밖에, 기존의 무전해 도금법에서는 산업상 이용가능한 도금 속도를 얻고, 고밀도의 도금층을 얻기 위해서는 대략 100℃ 이하 정도되는 고온으로 도금 용액을 가열하여야 한다. 이 경우에 수반되는 문제는 예를 들어 포토레지스트(photoresist) 또는 생체 재료와 같이 온도에 민감한 물질들은 무전해 도금이 가능하지 않게 된다는 것이다.