일반기술

ＭｇＯ층에 대한 세정방법 및 이를 이용한 플라즈마디스플레이 패널의 제조방법

PDP의 기판상에 증착된 MGO층으로부터 아웃개싱되는 불순물을 감소시키고 동시에 방전 특성을 향상시킬 수 있는 MGO층에 대한 세정방법과 PDP의 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따른 MGO층에 대한 세정방법은, MGO층이 외부에 노출되도록 형성된 기판을 플라즈마 반응챔버내로 로딩하는 단계 및 상기 MGO층에 흡착된 불순물들이 제거되도록 상기 MGO층에 대하여 대기압에서 플라즈마 세정을 수행하는 단계 및/또는 열처리를 통하여 세정을 수행하는 단계를 포함한다. MGO층이 외부에 노출되도록 형성된 기판을 플라즈마 반응챔버내로 로딩한 후 상기 MGO층에 흡착된 불순물들이 제거되도록 플라즈마 세정을 수행하는 MGO층에 대한 세정방법에 있어서, 상기 MGO층에 대한 플라즈마 세정은, 헬륨 + 산소 + 아르곤의 혼합가스 또는 헬륨 + 산소 + 아르곤 + 질소의 혼합가스를 세정가스로 하여 대기압하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 MGO층에 대한 세정방법이다MGO층이 외부에 노출되도록 형성된 기판을 플라즈마 반응챔버내로 로딩한 후 상기 MGO층에 흡착된 불순물들이 제거되도록 플라즈마 세정을 수행하는 MGO층에 대한 세정방법에 있어서, 상기 MGO층에 대한 플라즈마 세정은, 헬륨 + 산소 + 아르곤의 혼합가스 또는 헬륨 + 산소 + 아르곤 + 질소의 혼합가스를 세정가스로 하여 대기압하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 MGO층에 대한 세정방법.PDP의 기판상에 증착된 MGO층으로부터 아웃개싱되는 불순물을 감소시키고 동시에 방전 특성을 향상시킬 수 있는 MGO층에 대한 세정방법과 PDP의 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따른 MGO층에 대한 세정방법은, MGO층이 외부에 노출되도록 형성된 기판을 플라즈마 반응챔버내로 로딩하는 단계 및 상기 MGO층에 흡착된 불순물들이 제거되도록 상기 MGO층에 대하여 대기압에서 플라즈마 세정을 수행하는 단계 및/또는 열처리를 통하여 세정을 수행하는 단계를 포함한다.