일반기술

계면활성제 작용기가 도입된 이니퍼터(개시제)를 이용하여제조한 단분산성 고분자 입자 및 그의 제조방법

본 발명은 나노크기의 범위의 단분산성 고분자 입자를 제조하는 방법에 관한 것으로, 계면활성제 역할을 하는 작용기를 이니퍼터에 도입하여 이를 이용하여 단분산성 고분자 입자를 제조하기 때문에, 본 발명에 의하면 분산안정제나 유화제가 별도로 필요없는 무유화 중합에 의하여 단분산성 고분자 입자를 제조할 수 있다. 본 발명은 시드 중합과 같은 다단계 반응이 아닌, 한단계만으로 입자를 제조할 수 있는 편리성이 있고, 리빙라티컬 반응 중 RAFT(RIVERSIBLE ADDITION FRAGMENTATION CHAIN TRANSFER) 반응의 특징인 분자량 조절이 가능한 단분산성 고분자 입자의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 1구 250㎖ 둥근플라스크 반응기에 물 150G과 모노머 스타이렌을 넣는 제1단계; 작용성(유화적 기능) 개시제 계면활성제가 작용기로 도입된 이니퍼터 4-DIETHYLTHIOCARBONYLSULFANYLMETHYL BENZOIC ACID(DTBA)를 넣는 제2단계; 이를 교반시키면서 5분간 질소퍼지 하는 제3단계; 완전히 교반시킨 후 270W UV등에 15㎝정도 이격시킨후 조사하면서 36시간 광중합 시키는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 단분산 고분자 입자의 제조방법이다.1구 250㎖ 둥근플라스크 반응기에 물 150G과 모노머 스타이렌을 넣는 제1단계; 작용성(유화적 기능) 개시제 계면활성제가 작용기로 도입된 이니퍼터 4-DIETHYLTHIOCARBONYLSULFANYLMETHYL BENZOIC ACID(DTBA)를 넣는 제2단계; 이를 교반시키면서 5분간 질소퍼지 하는 제3단계; 완전히 교반시킨 후 270W UV등에 15㎝정도 이격시킨후 조사하면서 36시간 광중합 시키는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 단분산 고분자 입자의 제조방법으로 계면활성제 역할을 하는 작용기를 이니퍼터에 도입하여 이를 이용하여 단분산성 고분자 입자를 제조하기 때문에, 본 발명에 의하면 분산안정제나 유화제가 별도로 필요없는 무유화 중합에 의하여 단분산성 고분자 입자를 제조할 수 있다. 본 발명은 시드 중합과 같은 다단계 반응이 아닌, 한단계만으로 입자를 제조할 수 있는 편리성이 있고, 리빙라티컬 반응 중 RAFT(RIVERSIBLE ADDITION FRAGMENTATION CHAIN TRANSFER) 반응의 특징인 분자량 조절이 가능한 단분산성 고분자 입자의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.