일반기술

반도체 및 디스플레이 공정용 초고순도 아산화질소를 제조하는 방법

반도체 및 디스플레이 분야에서 세정제로 사용되는 초순수 아산화질소의 신규한 제조방법을 제공하는 것으로서, 99.999% 이상의 초고순도 아산화질산을 제공하는 것과 간단한 공정으로 대량생산가능한 아산화질산의 생산방법을 제공한다. 질산암모늄을 직접 가열하는 방식으로 열분해 하는 단계, 열분해 부산물 중 워터샤워링 및 흡착컬럼을 통과시켜 저농도의 아산화질소를 제조하는 단계 및 증류에 의한 초고순도의 아산화질소를 제조하는 단계로 구성되는 초고순도의 아산화질소를 제조하는 방법을 제공한다.저온응축단계에서 증류탑의 상부에 콘덴서를 설치하고 하부에 보일러를 설치함으로써 고효율의 고순도의 아산화질소를 제공하는 것을 특징으로 하며, 반도체 및 디스플레이 분야에서 세척제, 수술용 마취제, 로켓 연료용 첨가물, 의약, 화장품 또는 식품산업에서는 분무용 추진제 등에 사용되는 N2O를 제공하는 것으로서 특히, 반도체 및 디스플레이 분야에 적합한 초순수 N2O를 제조하는 새로운 방법을 제공하는 것이다. 새로운 제조방법에 의하여 간단한 공정을 연속적으로 실시함으로써 경제성 있는 고순도의 N2O를 제조할 수 있고, 상업적 생산규모를 쉽게 도달할 수 있어서, 경제적으로 제조할 수 있는 방법을 제공한다.