일반기술
초음파 건식 세정기의 세정헤드 냉각 및 가스분사장치
초음파 건식 세정기의 세정헤드 냉각 및 가스 분사장치에 관한 것으로서, 특히 초음파 헤드의 외곽을 감싸면서 그 초음파 헤드와의 사이에 일정 간극을 갖도록 분사커버를 형성하고, 상기 분사커버의 출구측에는 매질(가스)이 기판을 향해 배출되도록 하는 분사구를 형성하며, 상기 분사커버의 도중에는 일정양의 매질이 머무를 수 있도록 일정크기의 냉각챔버를 형성하므로서, 반도체 제조공정 또는 에시디 패널 제조공정 중에 기판(웨이퍼 또는 그레스) 표면에 붙어있는 불순물을 효율적으로 제거하여 세정 처리할 수 있음은 물론 장시간 연속적으로 초음파 헤드를 사용하더라도 분사커버를 통과하는 저온의 매질에 의해 초음파헤드가 효율적으로 냉각되어 과열에 의한 고장을 방지할 수 있도록 한 초음파 건식 세정기의 세정헤드 냉각 및 가스 분사장치에 관한 것이다.초음파 건식 세정기의 세정헤드 냉각 및 가스 분사장치에 관한 것으로서, 반도체 제조공정 또는 에시티 패널 제조공정 중에 기판(웨이퍼 또는 그레스) 표면에 붙어있는 불순물을 효율적으로 제거하여 세정 처리할 수 있음은 물론 장시간 연속적으로 초음파 헤드를 사용하더라도 분사커버를 통과하는 저온의 매질에 의해 초음파헤드가 효율적으로 냉각되어 과열에 의한 고장을 방지할 수 있도록 한 초음파 건식 세정기의 세정헤드 냉각 및 가스 분사장치를 제공하는 효과를 기대할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
- 보유기관
- 호서대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2006-05-12
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.