일반기술

실리콘 벌크 에칭장치

초미세 반도체소자를 제조하기 위하여 실리콘벌크를 에칭하는 장치에 관한 것으로, 에칭 액을 수용하여 반도체벌크를 에칭하는 에칭 조가 전열찬 위에 얹혀져 지지되고, 상기 전열판은 내부에 유도코일을 구비하여 외부전원을 공급받아서 유도전류로써 발열하여 상기 에칭 조에 전열함으로써 에칭 액을 가열하며, 상기 에칭 조에는 외부전원에 의해 초음파를 발생시켜 상기 에칭조 내부의 에칭 액을 진동시킴으로써 교반하는 초음파발생기가 구비된다.따라서 초음파발생기에서 제공되는 초음파에 의해 에칭 액이 교반됨으로써 에칭 액의 농도가 에칭 조안에서 위치와 관계없이 균일하게 유지되어 에칭 품질을 일정하게 유지하게 된다.에칭 액의 농도저하를 방지하기 위하여 별도의 침적물 제거제를 사용하지 않으므로 원가를 절감할 수 있고 농도를 측정하기 위한 별도의 보조장치를 사용하지 않으므로 구조가 간단하다. 뿐만아니라 에칭 액을 교반하기 위한 장치로서 마그네틱 바아와 이 마그네틱 바아를 움직이기 위한 장치대신에 초음파발생장치를 사용함으로써 간단한 구조로써 에칭 액을 효과적으로 교반함으로써 에칭 액의 농도불균일을 해소하여 에칭 조 전체에 걸쳐 에칭 액 농도를 균일하게 유지할 수 있다. 이에 따라 에칭 조에 배치된 위치에 따라 에칭품질에 편차를 일으키는 단점을 해소할 수 있다.

기술정보

기술분류
전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
보유기관
호서대학교
기술유형
일반기술
등록일
2006-05-12
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

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