일반기술
계면활성제 작용기가 도입된 신규의 이니퍼터(개시제)의 제조방법
* 원리 및 구성 본 기술은 나노크기의 범위의 단분산성 고분자 입자를 제조하는 데 있어 유화중합의 개시제로서 사용되는 계면활성제 역할을 하는 작용기를 가진 이니퍼터를 생산하는 방법에 관한 것이다. 본 기술에 의한 이니퍼터를 도입하여 고분자 입자를 제조하면 별도의 분산안정제나 유화제가 필요없어 무유화 중합에 의하여 단분산성 고분자 입자를 제조할 수 있다. * 배경종래의 기술과 차별되는 안정제나 계명활성계의 사용없이 특수하게 합성된 개시제, 즉 유화제 기능을 가진 이니퍼터만을 이용하여 단분산인 고분자 입자를 제조함으로써 개시제의 농도조절을 통해 입자크기를 제어할 수 있고 나노크기범위에서 입자를 제조하는 방법을 제공할 수 있도록 하였다. * 중요성 및 독창성 본 기술의 이니퍼터를 도입하면 시드 중합과 같은 다단계 반응이 아닌, 한단계만으로 고분자 입자를 제조할 수 있는 편리성이 있고, 리빙라티컬 반응 중 RAFT(RIVERSIBLE ADDITION FRAGMENTATION CHAIN TRANSFER) 반응의 특징인 분자량 조절이 가능한 단분산성 고분자 입자의 제조할 수 있다.* 적용제품 및 경쟁제품 크로마토그래피의 충전물질, 약물전달체, 무기물 대체제, 전자종이용 안료, 기타안료의 원료물질* 주요 적용 제품단분산성 TiO2 등과 같은 무기물 대체시장이나 안료중간체물질* 특징 및 장점 - 첫째, 본 발명에 의한 이니퍼터를 도입하여 고분자 입자를 제조하면 별도의 분산안정제나 유화제가 필요없어 무유화 중합에 의하여 단분산성 고분자 입자를 제조할 수 있다. - 둘째, 시드 중합과 같은 다단계 반응이 아닌, 한단계만으로 고분자 입자를 제조할 수 있는 편리성이 있고, 리빙라티컬 반응 중 RAFT반응의 특징인 분자량 조절이 가능한 단분산성 고분자 입자의 제조할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 유기합성 공정 기술 (C23)
- 보유기관
- 성균관대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2006-05-30
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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