일반기술

기체방전에서 생성된 탈출전자빔으로 주사되는 새로운 종류의 고효율 금속증기레이저 연구개발

이 프로젝트는 기초 레이저물리학의 문제에 대한 연구와 관련이 있다. 이 프로젝트의 목적은 새로운 형태의 고효율 방전레이저를 만들 수 있는 실험적, 이론적 기초를 마련하는데 있다. 이러한 레이저는 특수한 구조의 방전을 이용하여 활성 매체에서 직접 생성하는 탈출 가능한 킬로볼트(수십 킬로볼트까지) 만큼의 전자빔에 의해 주사되는 것이다. 이러한 형태의 기체 방전에 의해 주사되는 금속증기레이저(MVL)의 이론적 연구와 첫 실험결과는 효율과 기존 MVL의 비력(specific power), 그리고 자외선, 적외선, 가시광선 스펙트럼 범위에 걸친 원자, 분자, 이온의 새로운 스펙트럼선의 레이저 작용이 현저히 늘어날 것을 예고하고 있다.이러한 레이저는 생리적 조절, 레이저 제약과 외과 의학, 통신 등에서 널리 이용될 수 있다. 또한 레이저는 레이저 화학분야와 동위원소의 분리 작업에서 희미한 밝기를 가진 우주의 물체를 밝게 증폭시키는 증폭기의 역할을 할 수 있을 것이다. 이러한 강력한 레이저는 반도체물질, 정교한 수정이나 다이아몬드 같은 다양한 물질에 대한 처리에 사용될 수 있다. 제시된 레이저의 연구는 높은 온도와 가시광선 및 자외선 스펙트럼 범위에서 작동하는 새롭고 효율적인 레이저를 만드는 기초가 될 것이다.

기술정보

기술분류
전기·전자 > 기타 반도체
보유기관
특허법인충정
기술유형
일반기술
등록일
2000-04-24
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

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