일반기술

다층 X-ray 광학: 기술, 연구, 응용

우리는 다층 X-ray 거울을 소프트 X-ray영역(λ= 0.1 -30mm)에서 제조하는 기술을 개발하고 있다. 다층 X-ray 광학은 광 요소의 X-ray 형광 분석을 위한 분산 요소로 이용되었다. 또한, 고온 플라즈마(레이저 플라즈마 Z-핀치)의 이미징과 진단학, "Fobos"와 "Coronas" 우주 프로그램에서 X-ray 망원경 제작, 고온 플라즈마 진단을 위한 다중 통로 장치(폴리크로메이터) 제작과 X-ray 리소그래피를 위한 프로젝트 구성 등을 분산 요소로도 이용되었다. 우리는 질소의 X-ray 형광 분석(주기적 다층 구조 d = 4.0, 5.5nm), "수창(water window)"( λ= 2.16 - 4.5nm)의 분야에서 편광계 제작, 이온 C V(λ= 4.03nm)와 C VI(λ= 3.37nm)의 복사파에 대한 이미징 광학 장치의 제작에서 효과적으로 이용되는, Cr/Sc를 이용한 다층 거울에 대해서 특별한 관심을 가지고 있다.제조기술 완성, 단기 다층 x-ray 거울(d = 1.0 - 3.0 nm)의 진단 및 연구 방법 개발. 이 거울의 목적은 생물학적 마이크로스코프의 순회 프로젝트의 개발("수창"의 영역에서 λ= 2.3 - 4.5nm), 높은 공간 분해능으로 광 요소의 x-ray 형광 분석을 위한 마이크로스코프의 제작, 공간x-ray 망원경의 설계에 효과적으로 적용하는 것이다.

기술정보

기술분류
전기·전자 > 기타 반도체
보유기관
특허법인충정
기술유형
일반기술
등록일
2000-04-24
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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