일반기술

진공증착장치의 기판 홀더

종래의 진공증착장치에서 사용된 기판홀더는 절연성이 좋으며 가공이 용이한 테프론을 주로 사용하였으나, 테프론은 기판을 100℃ 이상으로 장시간 가열하는 경우 그 열로 인하여 테프론 홀더가 휘는 현상이 발생하게 된다. 이러한 경우 기판간의 거리가 틀려져 증착되는 박막의 두께가 불균일하게 되는 문제가 발생하게 되며, 또한 열화된 테프론 내부에 포함된 불순물이 박막에 같이 증착될 가능성을 포함하고 있으므로 결과적으로 우수한 박막을 제작할 수 없다.또한, 스테인레스 메시는 수차례의 공정을 거치면서 처음 설치될 때 보다 메시의 평활성을 잃어버리게 되며 탄성력이 작아 원상태로 회복될 수 없다. 이러한 경우에 PVDF 박막을 증착하게 되면 기판과 메시와의 거리가 전체적으로 일정하지 않게 되고, 그에 따라 전계가 균일하게 인가되지 않음으로써 β-형 PVDF의 성장에 영향을 미치게 된다. 이러한 문제를 해결하기 위해서는 메시 프레임을 분리하여 새로운 메시를 주기적으로 교체해야 하는 불편함이 있다. 본 발명은 열과 전계에 강한 기판홀더와 일정한 평탄성을 가지는 메시를 제공함으로써 기판상에 최상의 고분자 박막을 증착할 수 있는 진공증착장치의 기판홀더를 제공한다.본 발명은 기판이 위치하는 상부 홀더와, 전계를 인가하기 위한 메시의 양 끝단을 지지하기 위한 메시 지지대들과, 나사산이 형성된 하나 이상의 끝단이 상기 메시지지대들을 관통하며, 관통된 메시 지지대 일부에 밀착되어 상기 메시 지지대들의 이격거리를 조절하는 결합수단과 짝을 이루는 이격거리 지지대와, 상기 메시 지지대 상부면에 결합되어 상기 메시의 양 끝단을 상기 메시 지지대들에 고정시키는 메시 고정판들로 구성되는 메시 홀더와, 상기 상부 홀더와 메시 홀더를 지지해 주는 하부 홀더로 구성되는 것에 기술적 특징이 있다. 본 발명은 기판홀더를 열과 전계에 강한 가공성 세라믹을 사용하여 제작함으로써 열에 의해 기판홀더가휘는 현상을 막을 수 있으며, 메시의 일측면을 이동 가능한 메시 지지대 혹은 와인드 볼트에 고정시킨후 메시의 일측면을 수평이동시킴으로써 메시의 평탄성을 유지할 수 있는 장점이 있다. 이러한 장점은 곧 기판과 메시 사이의 간격을 일정하게 유지시킴으로써 최상의 상태로 고분자 박막을 증착시킬 수 있는 원동력이 된다.진공증착장치 특히, 열과 전계에 강한 기판홀더와 박막의 균일성을 향상시키기 위한 메시를 구비하는 진공증착장치의 시장성은 매우 크다.