일반기술

반도체 소자 배선용 구리 박막의 증착속도를 높이기 위한 전처리 세정 방법

[해결하고자 하는 과제]본 발명의 목적은 비저항이 낮고 작동 신뢰성 및 기계적 특성이 우수한 반도체 소자 배선용 구리 박막 및 그 제조방법을 제공하는 것이다[과제 해결을 위한 수단]본 발명은 기판 (1); 기판 (1) 위의 하지막 (2); 하지막(2) 위의 팔라듐 층 (3); 및 팔라듐 층 (3) 위의 구리층 (4)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 배선용 구리 박막 및 그 제조방법을 제공하며, 본 발명에 의한 구리 박막은 종래의 것에 비해 비저항이 낮고 작동 신뢰성 및 기계적 특성이 우수하며, 특히 구리가 빠르고 균일하게 도포되는 특징을 갖는다.본 발명은 열역학적 방법과 계통 발생학적 비교법으로 대표되는, 기존의 RNA 구조 예측 방법들은 RNA의 구조 형성 과정을 고려하지 않고 최종 구조를 추정하는 것이다. 그러나, RNA 분자의 구조는 그 RNA의 염기 서열이 다 자라기를 기다렸다가 가장 안정된 형태를 취하는 것이 아니라, 염기 서열이 생성됨과 거의 동시에 구조가 형성된다. 따라서 folding의 동력학 (kinetics) 측면에서 어려움이 있으면, 열역학적 또는 계통 발생학적으로 안정된 형태에 도달하지 못할 수도 있고, RNA 분자의 최종 구조는 일차 구조가 시간이 지남에 따라 자라면서 형성하게 되는 중간 단계의 구조들에 의해 어느 정도 영향을 받게 된다. 또한, 한 구조에서 다른 구조로의 동적인 이동이 어떤 RNA 분자에 있어서는, 기능의 중요한 부분일 수도 있다. 본 발명은 구조형성과정의 kinetics를 고려하여 RNA 구조의 형성과정을 시뮬레이트함으로써, 보다 안정적인 구조 예측을 하는 특징이 있다.본 발명은 열역학적․계통발생학적으로 안정되고 구조 형성 과정이 고려된 RNA 분자 이차 구조를 예측할 수 있고, 중간 단계 및 최종 단계에서 에측된 구조의 신뢰도를 정량적으로 나타낼 수 있으며, 구조의 재편성을 허용함으로써 보다 생물학적으로 의미 있는 RNA 분자 이차 구조를 얻을 수 있다.본 발명은 RNA 이차 구조의 예측이 필요한 모든 분야에 적용 및 응용이 가능하여 그 시장성이 크다.