일반기술

분산중합에서 양쪽성 개시제를 이용한 비닐계 고분자 입자의 제조방법

본 발명은 분산중합법으로 입도분포가 균일한 비닐계 고분자 입자를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 양쪽성 개시제를 사용하여 입체안정제의 사용량을 줄이면서도 안정하고 입자의 분포가 균일한 구형의 비닐계 고분자 비드를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에서는, 비닐계 단량체, 중합 개시제, 입체안정제를 분산매에 용해시켜 분산중합으로 비닐계 고분자 비드를 제조하는 방법에 있어서, 상기 중합개시제로 양쪽성 중합 개시제를 사용하고, 상기 입체안정제를 단량체 100 중량부에 대하여 1～5 중량부로 사용하여, 입자 크기 분포도(CV)가 5% 이하이고 입자크기가 0.1～20 ㎛인 구(球) 형태의 고분자 비드를 수득하는 것을 특징으로 하는 비닐계 고분자 비드의 제조방법이 제공된다. 본 발명에 따르면, 단량체 100중량부에 대하여 종래 10～15 중량부로 사용되던 입체안정제의 사용량을 1～5 중량부로 크게 줄이면서도 입자 크기분포도 5% 이하의 균일하고 안정된 입자를 얻을 수 있다.본 발명은 분산중합법으로 입도분포가 균일한 비닐계 고분자 입자를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 양쪽성 개시제를 사용하여 입체안정제의 사용량을 줄이면서도 안정하고 입자의 분포가 균일한 구형의 비닐계 고분자 비드를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 분산중합법을 통해 입자 균일도가 더욱 우수한 비닐계 고분자 비드를 제조할 수 있는 최적의 반응조건을 설계하고자 하는 연구의 일환으로 개발되었다. 즉, 본 발명자들은 비닐계 단량체, 중합 개시제, 분산매 및 입체안정제를 사용하는 분산중합법을 수행함에 있어, 양쪽성 개시제를 사용하여 분산중합을 수행함으로써 현재 일반적으로 사용되고 있는 공지의 아조계 및 퍼록사이드계 개시제를 통한 방법보다 평균입경 0.1～20㎛의 범위에서 입자 균일도가 훨씬 우수한 비닐계 고분자 입자를 제조할 수 있음을 발견하고 본 발명을 완성하게 되었다.