일반기술

니트록사이드 자유 라디칼 작용제와 반응속도 향상제를이용한 비닐계 고분자 비드의 제조방법

본 발명은 니트록사이드 자유 라디칼 작용제와 반응속도 향상제를 이용한 비닐계 고분자 비드의 제조방법에 관한 것으로 서, 더욱 상세하게는 분산중합법에 자유 라디칼 중합을 접목시킨 방법으로서, 중합반응물의 완전 용해가 가능한 다가 알콜계 분산매를 사용하여 중합반응시간을 단축하고, 특정의 입체안정제를 선택 사용하여 구 형태의 고분자 입자를 형성 및 유지시키며, 니트록사이드 자유 라디칼 작용제와 방향족 설폰산계 반응속도 향상제를 선택 사용하는 특정의 중합조건으로 반응시켜 분자량 분포도(PDI)가 협소한 범위를 이루고 있으면서도 입자 크기가 수십 nm 내지 수십 ㎛로 균일한 구형의 비닐계 고분자 비드를 제조하는 방법에 관한 것이다.본 발명은 니트록사이드 자유 라디칼 작용제와 반응속도 향상제를 이용한 비닐계 고분자 비드의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 분산중합법에 자유 라디칼 중합을 접목시킨 방법으로서, 중합반응물의 완전 용해가 가능한 다가 알콜계 분산매를 사용하여 중합반응시간을 단축하고, 특정의 입체안정제를 선택 사용하여 구 형태의 고분자 입자를 형성 및 유지시키며, 니트록사이드 자유 라디칼 작용제와 방향족 설폰산계 반응속도 향상제를 선택 사용하는 특정의 중합조건으로 반응시켜 분자량 분포도(PDI)가 협소한 범위를 이루고 있으면서도 입자 크기가 수십 nm 내지 수십 ㎛로 균일한 구형의 비닐계 고분자 비드를 제조하는 방법에 관한 것이다.본 발명은 분산중합법에 의한 리빙 자유 라디칼 중합을 수행하여 입자균일도가 우수한 비닐계 고분자 비드를 제조할 수 있는 최적의 반응 조건을 설계하고자 하는 연구 일환으로 개발된 발명이다. 즉, 본 발명에서는 비닐계 단량체, 중합개시제, 분산매 및 입체안정제를 사용하는 분산중합법을 수행함에 있어, 니트록사이드 자유 라디칼 작용제와 방향족 설폰산계 반응속도 향상제를 선택 첨가 사용하는 조건에서 분산중합을 수행함으로써중합반응시간을 단축시키면서도 입자 균일도가 우수한 비닐계 고분자 비드를 제조하는 방법을 개발함으로써 본 발명을 완성하게 되었다.따라서, 본 발명의 목적은 단시간에 분자량 분포도가 협소한 특성을 갖으며 입자크기 분포도가 향상된 구형의 안정된 비닐계 고분자 비드를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.본 발명에서 제공하는 중합방법에 의해 니트록사이드 자유 라디칼 작용제를 사용하는분산중합법에 있어서 반응속도 향상제를 일정량 사용함으로서 중합된 고분자의 분자량 분포도(PDI)가 1.0 내지 2.0의 협소한 범위를 나타내며 고분자를 입자크기가 수십 ㎚ 내지 수십 ㎛까지로 균일한 고분자 미립자의 제조가 단시간에 가능하다.