일반기술

Excimer 레이저 - 마이크로전자학, 광화학, X-ray 분광기와 기타 과학분야의 연구에 널리 쓰이는 측정기

190 에서 350nm 범위의 복사파장을 생성하는 Excimer분자를 이용한 레이저는 많은 기업에서 개발하여 생산하고 있다. 이것은 레이저 파라미터(복사 스펙트럼, 평균 파워, 펄스 에너지)가 마이크로전자학, 광화학, x-ray광선의 생성 등 많은 응용분야에서 매력을 더해가고 있다는 사실 때문이다. 그러나 이들을 사용하면서 발생한 복잡한 문제와 어려움은 주파수 변환한 가닛(garnet) 레이저와 비교하게 되면서 경쟁력을 잃어갔다. 발표된 데이터와 우리 자신의 경험을 분석해보면, 가장 어려운 문제는 Excimer 레이저에서 나타나는 짧은 역전시간 때문에 나타난다. 이 때문에 복잡한 생성 스펙트럼 선택 과정을 사용해야 하는 필요가 생기게 되었다. Excimer 레이저의 본질적인 결점은 가동하는 기체를 정기적으로 갈아 주어야 한다는 것과 상당히 규모가 커야 한다(실용적 매체에서 소량으로 저장된 에너지)는 것이다.개발된 레이저는 UV 리소그래피와 홀로그래피, x-ray광선의 생성, UV 이미지 밝기 증폭기 등에 응용할 수 있을 것이다.

기술정보

기술분류
전기·전자 > 기타 반도체
보유기관
특허법인충정
기술유형
일반기술
등록일
2000-04-24
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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