일반기술
나노입자가 충진된 나노구조
* 원리 및 구성본 기술은 나노틀(NANO TEMPLATE)에 나노입자를 충진하는 충진방법 및 그 나노입자 충진방법에 의해 형성된 나노구조에 관한 것이다. 구체적으로는 다수의 기공(PORE)을 갖는 양극 산화 알루미나(ANODIC ALUMINIUM OXIDE, AAO)와 같은 나노틀에 초음파진동 방법이나 마그네틱 스터링 방법으로 지름이 1-100NM인 나노입자(NANO PARTICLE)를 충진하는 방법 및 그 나노입자 충진방법에 의해 형성된 나노구조에 관한 것이다. * 개발배경다수의 기공을 가지는 나노틀을 초음파 발생기 상부에 위치하는 용기에 제공하는 단계; 상기 용기에 분산되어 있는 다수의 나노입자를 포함하는 나노입자 분산액을 제공하는 단계 및 상기 초음파 진동기를 이용하여 초음파를 발생하고 일정한 시간동안 유지하여 상기 나노틀의 상기 다수의 기공에 상기 나노입자를 장입하는 단계를 포함하는 나노입자 배열방법을 활용하는 것을 사용한다.* 적용제품 및 경쟁제품다수의 기공을 가지는 나노틀을 초음파 발생기 상부에 위치하는 용기에 제공하는 단계, 상기 용기에 분산되어 있는 다수의 나노입자를 포함하는 나노입자 분산액을 제공하는 단계 및 상기 초음파 진동기를 이용하여 초음파를 발생하고 일정한 시간동안 유지하여 상기 나노틀의 상기 다수의 기공에 상기 나노입자를 장입하는 단계를 포함하는 나노입자 배열방법. 본 기술은 나노틀(NANO TEMPLATE)에 나노입자를 충진하는 충진방법 및 그 나노입자 충진방법에 의해 형성된 나노구조에 관한 것이다. 구체적으로는 다수의 기공(PORE)을 갖는 양극 산화 알루미나(ANODIC ALUMINIUM OXIDE, AAO)와 같은 나노틀에 초음파진동 방법이나 마그네틱 스터링 방법으로 지름이 1-100NM인 나노입자(NANO PARTICLE)를 충진하는 방법 및 그 나노입자 충진방법에 의해 형성된 나노구조에 관한 것이다. *주요적용제품- 나노 소재 제품*특징 및 장점- 다른 나노구조보다 빠르고 신속한 방법으로 처리가능
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 나노점·나노입자·나노와이어 제조공정 기술
- 보유기관
- 고려대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2006-05-24
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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