일반기술

나노미터 수준의 고정밀 패턴 형성 방법

본 기술은 나노미터 수준의 고정밀 패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 자기조립 단분자층을 이용하여 표면에 나노미터 수준의 고정밀 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다.기존의 광전사법에서 사용하던 딥 UV 영역의 빛이 아니라, 보다 파장이 짧은 소프트 X-선에 의해 선택적인 화학적 변환을 일으키는 새로운 형태의 안정한 자기조립 분자 박막을 사용하여 나노미터 수준의 패턴을 단시간 내에 형성하는 방법을 제공하는데 있다.기질 표면에 친수성과 소수성으로 구별되는 고정밀 나노패턴을 단시간 내에 원하는 모양으로 형성할 수 있다. 이와 같이 만들어진 나노패턴은 고분자 공중합체의 코팅과 선택적인 표면의 에칭을 수반하는 기초 표면으로 사용되어, 반도체 재료분야에 유용성이 크다. 또한 반응성이 좋은 아민기를 가지고 있어, 효소 혹은 갖가지 기능성 물질을 나노 수준에서 조절하여 도입할 수도 있으므로, 고집적 바이오 칩이나, 센서를 개발하는 데 매우 중요한 기능을 수행할 수 있다.