일반기술

광조형물의 표면처리방법

본 발명은, 충분한 표면 정도를 가지도록 처리되는 광조형물의 표면처리방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 표면처리방법은, 계단형을 가지는 광조형물의 표면에, 파라핀 코팅층을 일정 두께로 성형하는 과정과; 상기 광조형물 보다연마 강도가 낮고, 파라핀 보다 연마 강도가 높은 연마재를 이용하여, 원래의 광조형물의 표면까지 파라핀 코팅층을연마하는 과정을 포함한다. 그리고 파라핀 코팅층을 형성하는 것은, 고온상태의 액상 파라핀에, 광조형물을 디핑하는것에 의하여 형성된다. 그리고 연마 과정은, 우드입자를 가지는 연마재에 의하여 수행되는 것이 바람직하다.본 발명에 의하여 완성되는 광조형물의 표면은 예를 들면 20㎛ 이하의 표면 정도를 얻을수 있게 된다. 따라서 원래의 광조형물의 형상을 훼손하지 않고 원하는 표면 정도를 얻을 수 있게 되어, 실제 금형제작에서 광조형물을 마스터 모델로 이용할 수 있는 실용성을 제공하게 된다. 또한 이러한 장점으로 인하여 실제의 금형제작에 있어서 광조형물이 보다 광범위하게 이용될 수 있게 되는 효과를 기대할 수 있게 된다.본 발명은 높이 방향으로 계단형을 가지는 광조형물을 고온상태의 액상 파라핀에 디핑하는 것에 의하여, 광조형물의 표면에 파라핀 코팅층을 일정 두께로 성형하는 과정과;상기 광조형물 보다 연마 강도가 낮고, 파라핀 보다 연마 강도가 높은 우드입자를 가지는 연마재를 이용하여, 원래의광조형물의 표면까지 파라핀 코팅층을 연마하는 과정을 포함하여 구성되는 광조형물의 표면처리방법이다.