일반기술

유기금속 화학증착법에 의한 피젯티 박막의 제조 방법

강유전체 박막으로서 유용한, PZT 박막을 비롯한 산화물 박막의 제조방법으로서, RF 마그네트론 스퍼터링(Radio Frequency magnetron sputtering), 이온 빔 스퍼터링(ion beam sputtering), 반응성 공-증발법(reactive co-evaporation), 금속 유기분해법(MOD, Metal Organic Decomposition), 액상원료 화학증착법(LSMCD, Liquid Source Misted Chemical Decomposition), 레이저 에블레이션(Laser Ablation) 및 유기금속 화학증착법(MOCVD) 등이 개발되었다.본 기술은 유기금속 화학증착법에 의한 PZT(lead zirconate titanate) 박막의 제조방법에 관한 것으로, 구체적으로는, 적합한 유기금속 착체들을 선별하여 Pb, Zr 및 Ti 각각의 전구체로서 사용함으로써 원하는 조성의 PZT 박막을 저온에서 제조할 수 있는 유기금속 화학증착법(MOCVD, metal organic chemical vapor deposition)에 관한 것이다.MOCVD는 유기금속 전구체 화합물을 기화시킨 후 화학 반응을 통해 원하는 고체 재료 박막을 합성하는 공정으로, MOCVD에 의하면, 분자 수준에서 최종 박막의 형성 공정을 제어할 수 있고, 유기금속 화합물의 분해 온도가 낮아 저온 공정이 가능하며, 원료물질의 도입량과 수송 가스량을 조절하여 박막의 조성과 증착 속도를 제어할 수 있고, 대면적 균일도(large area uniformity)가 좋아 대단위 공정에 적용할 수 있으며, 기판 표면에 손상이 없이 단차 피복성(step coverage)이 우수한 박막을 얻을 수 있다.