일반기술

웨이퍼의 연마율을 제어하는 방법 및 이 방법을 수행하는 화학기계적 연마장치

본 발명은 웨이퍼의 연마율을 제어하는 방법 및 이 방법을 수행하는 화학기계적 연마장치에 관한 것으로서, 그 방법 은 연마부(403)에서 발생되는 적외선을 측정할 수 있는 센서(401)와 그리고 적외선빔을 발생시켜 상기 연마부(403) 에 상기 적외선빔을 조사하여 국부적으로 상기 연마부(403)의 온도를 상승시킬 수 있는 온도 제어수단으로서 적외선 발생장치(703) 및 반사 조절장치(704)를 포함하고 있는 온도 제어수단(402)에 의해, 연마 중에 연마되는 연마부(403 )의 온도를 측정함과 동시에 연마부(403)의 온도를 제어하여서 웨이퍼(404)의 연마율을 제어하는 것으로 되어 있고; 그리고 그 화학기계적 연마장치는 적외선이 투과될 수 있는 투과창(707)의 상부에 웨이퍼(710)의 온도를 국부적 혹 은 전면적으로 측정할 수 있는 적외선 센서인 카메라(701)가 구비되어 있고, 상기 연마헤드(303)의 상부에 제어수단 에 의해 적절한 온도를 발생시키는 적외선 발생장치(703)와 상기 제어수단에 의해 적외선을 웨이퍼 면에 국부적으로 주사할 수 있는 반사 조절장치(704)가 구비되어 있는 것으로 되어 있다.본 발명은, 상기한 바와 같이, 웨이퍼를 가압하는 방식이 공압에서 발생하는 정수압을 이용하여 웨이퍼 뒷면을 부가 적인 기구 없이 직접 가압하는 방식을 취하여, 웨이퍼 전면에 균일한 압력을 전사시킬 수 있는 효과를 제공한다. 또한, 본 발명은 웨이퍼와 접촉하는 부가적인 기구가 없기 때문에, 접촉에 의한 오염을 최소화시킬 수 있는 장점이 있 다. 또한, 웨이퍼에 적절한 회전력을 보다 정확하게 전달하기 위하여 웨이퍼의 외주(edge)부분을 흡착할 수 있는 얇은 진 공 흡착구조가 구비되어, 웨이퍼 회전의 불균일 현상을 줄일 수 있는 장점을 가진다. 또한, 본 발명은 적외선으로 연마온도를 측정하여 연마상태를 감시하는 것과 그리고 적외선 발생장치 및 반사 조절장 치를 이용하여 연마부의 연마상태를 제어하는 것을 가능하게 한다.