일반기술

저에너지 전자빔을 이용하는 고정밀 패턴 형성 방법

본 기술은 기질상에 고정밀 패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 저에너지 전자빔을 사용하여 자기조립 단분자층에 고정밀 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다. 지금까지의 표면 패턴 형성은 주로 고분자 박막을 감광저항제(photoresist)로 이용한 광전사법(photolithography)에 의해 이루어져 왔으며, 또한 자기조립 단분자층을 이용한 완전히 새로운 개념의 패턴닝 기술, 즉, 소프트 전사법(soft lithography), 원자현미경의 탐침(tip)을 이용한 표면의 나노패턴닝 기술, 초점화된 이온빔이나 전자빔을 이용한 기술이 개발되어져 왔으나 기존의 광전사법에서 문제시 되었던 빛의 회절 현상등을 피할 수 있고, 수 nm에 이르는 고분해능의 패턴을 얻을 수 있다는 장점을 가지긴 하지만, 하나하나 원하는 패턴을 그려가야 하므로 비교적 긴 시간을 필요로 한다는 문제점과 함께, 전자빔을 초점화할 수 있는 아주 고가의 장비를 필요로 하므로 경제적인 측면에서 손쉽게 이용하기 어렵다는 문제점을 지닌다.상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 기술에서는,아미노 화합물의 분자층이 형성되어 있는 기질 상에 존재하는 아민기를 선택적으로 구조 변환시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고정밀 패턴 형성 방법을 제공한다본 기술에 따르면, 기질 표면에 친수성과 소수성으로 구별되는 고정밀 패턴을 단시간내에 원하는 모양으로 형성할 수 있다. 이와 같이 만들어진 패턴은 고분자 공중합체의 코팅과 선택적인 표면의 에칭을 수반하는 기초 표면으로 사용되어, 반도체 재료분야에 그 응용성이 기대되어진다. 또한 반응성이 좋은 아민기를 가지고 있어, 효소 혹은 갖가지 기능성 물질을 나노 수준에서 조절하여 도입할 수도 있으므로, 각종 고집적 센서를 개발하는 데 매우 중요한 기능을 수행할 수 있다.