일반기술

IC 나노리소그래피에서 VUV 광선 응용 연구를 위한 실험적 기술

프로젝트 개념의 기초가 되는 실험 세팅을 형성하는 위상적 IC 이미지는 투사법에 바탕을 두고 있다. 투사(projection)란 10 에서 120nm의 파장 범위에서 선택한 협대역 진공 자외선(VUV)을 이용하여 독립된 IC 층이나 그 일부의 단계적 위상 이미지를 노출하는 광학 시스템을 반영하는 것이다. VUV원은 레이저 플라즈마로, 중금속(또는 기체)으로 만든 얇은 테이프(또는 작은 공)에 초점을 맞춘 강력한 주파수의 레이저에서 방출되는 펄스 복사파에 의해 생성된다. 광학 시스템과 형판(마스크)은 곡선에 가까운 모양의 원자적으로 부드러운 표면(대물렌즈나 집광렌즈)이나 평면(VUV 마스크)에 씌워진 다층 Bragg’s 코팅이 있는 X-ray광학의 반사원리에 따라 제작되었다. 그런 후에, 10배로 확대된 IC 이미지는 정밀하게 초점 잡힌 빔에 의해 기존 전자 리스그래피 방법으로 마스크 표면에 새겨진다.