일반기술

무기질 박막 필름에서 세기가 강한 VUV-Excimer 레이저 광선과 2차 EVUV 광선의 상호작용

이 작업의 목적은 아주 빠르게 스위칭하는 대형 집적회로(SBIC와 SFIC)를 포함한 마이크로 전자 상품의 위상(topology)이 형성되었을 때, 여러 박막 필름과 상호작용을 하고 효과 효율과 공간 분해능에 영향을 미치며 이를 결정하는, 근(近) (I= 250 에서 120nm), 중(中)(I= 10 에서 10nm), 원(遠)(20 에서 10 nm)의 진공 자외선 아(亞)파장범위 세기가 강한 레이저 광선으로 일어나는 물리적 현상을 탐구하는 것이다. IC마이크로 이미지 형성에서 광학적 투사 시스템의 낮은 수치적 어퍼쳐(짧은 파장에서)의 부정적 효과를 보상하기 위해서는 높은 이미지 이전 콘트래스트만을 사용한다. 주된 착상은 몇몇 무기질 필름과 상호작용하는 전자기파에 높은 에너지 양자로 PTI에서 발견한 이미지 이전 콘트래스트 양의 효과에 바탕을 두고 있다.아주 빠르게 스위칭하는 대형 집적회로(SBIC와 SFIC) 포함한 마이크로 전자제품 개발

기술정보

기술분류
전기·전자 > 기타 반도체
보유기관
특허법인충정
기술유형
일반기술
등록일
2000-04-24
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

관련 특허

등록된 관련 특허가 없습니다.