일반기술

미세 입자의 제조 방법 및 그 장치

본 기술은 미세 입자의 원료가 되는 고체 분말을 소정의 형틀 내에서 가압, 가열하여 고형화시킨 후에 고형화된 고체 시편을 펄스 레이저를 이용하여 미세 입자화함으로써 미세입자의 생성 효율을 향상시킨 미세입자의 제조 방법 및 그 장치에 관한 것이다. 이를 위한 본 기술에 따른 방법은, 상기 미세 입자를 생성하기 위한 원료로서의 고체 분말을 가압, 가열하여 고형화된 고체 분말 덩어리 시편을 만드는 단계 및 상기 고형화된 고체 분말 덩어리 시편에 레이저 펄스를 조사하여 어블레이션(ablation) 시켜 상기의 미세 입자를 생성하는 단계를 포함하여 된 것을 특징으로 하고, 본 기술에 따른 장치는, 상기 미세 입자를 생성하기 위한 원료로서의 고체 분말을 가압, 가열하여 고형화된 고체 분말 덩어리 시편을 만들기 위한 가압 가열수단 및 상기 고형화된 고체 분말 덩어리 시편에 레이저 펄스를 조사하여 어블레이션시켜 상기의 미세 입자를 생성하기 위한 수단을 포함하여 된 것을 특징으로 한다.종래기술에 따르면 고체 분말을 에어졸과 같은 형식으로 분사한 이후에 펄스 레이저를 이용하여 입자의 크기를 줄이거나 또는 일정한 곳에 부착시킨 후 레이저를 이용하기 때문에 입자의 분산 및 수거의 문제 등으로 인해서 미세입자를 제조하는데 있어서 그 효율이 떨어지는 문제점이 있었다. 본 기술에 따른 미세 입자의 제조 방법 및 그 장치는, 미세 입자의 원료가 될 고체 분말을 소정의 형틀 내에서 가압, 가열하여 고형화시킨 후에 고형화된 고체 시편을 펄스 레이저를 이용하여 미세 입자화함으로써 미세입자의 생성 효율을 향상시키는 이점을 제공한다.