일반기술

플라즈마를 이용한 원자층 증착방법

플라즈마 챔버내에 반응가스에 의해 플라즈마가 온(ON)된 상태에서 증착원료 프리커서와 반응하지 않는 반응가스와 동일한 캐리어 가스를 사용하여 프리커서를 펄스(pulse) 형태로 주입함으로써 PECVD와 ALD 증착법의 장점을 접목시켜 전체적으로 공정시간을 줄일 수 있으며 보다 우수한 박막을 형성함과 동시에 캐리어 가스와 플라즈마 반응가스가 동일하기 때문에 이들의 교차에 의한 불균일한 플라즈마가 발생하는 것을 막을 수 있다.본 발명에 따르면 플라즈마가 항상 ON된 상태에서 플라즈마 반응가스와 동일한 원료 프리커서와 반응하지 않는 캐리어 가스를 주입하고 펄스(pulse) 형태로 프리커서를 주입하여 증착함으로써 일반적인 ALD 증착방법에서 생기는 증착 시간을 절감함으로써 전체적인 공정시간을 줄일 수 있다는 이점이 있다. 또한, 캐리어 가스와 플라즈마 반응가스가 동일하기 때문에 이들의 교차에 의한 불균일한 플라즈마가 발생하는 것을 막을 수 있다.