일반기술
페라이트를 이용한 고효율 고밀도 유도결합 플라즈마 발생 장치
강자성체인 페라이트 코어를 이용하여 제작한 ICP 장치이다. 페라이트의 큰 투자율을 이용하여 강한 전기장을 유도하여 고밀도의 균일한 분포를 갖는 플라즈마를 발생시킬 수 있다.RF ICP와 비교해 역률이 1에 가까운 아주 높은 값을 나타내기 때문에 안테나 전압과 전류가 아주 낮다. 안테나 전압이 300V이하로 아주 낮아 스퍼터링 문제를 해결할 수 있다. 안테나 전류 또한 수 A 수준으로 아주 낮아 전력손실을 줄일 수 있어 전력 효율을 향상시킬 수 있다. 또한 생성된 플라즈마의 특성 분석 결과 플라즈마 전위도 기존 ICP에 비해 절반 수준이며, 전자 온도는 비슷하게 나타난다.강자성체인 페라이트 코어를 이용하여 제작한 ICP 장치이다. 페라이트의 큰 투자율을 이용하여 강한 전기장을 유도하여 고밀도의 균일한 분포를 갖는 플라즈마를 발생시킬 수 있다. RF ICP와 비교해 역률이 1에 가까운 아주 높은 값을 나타내기 때문에 안테나 전압과 전류가 아주 낮다. 안테나 전압이 300V이하로 아주 낮아 스퍼터링 문제를 해결할 수 있다. 안테나 전류 또한 수 A 수준으로 아주 낮아 전력 손실을 줄일 수 있어 전력 효율을 향상시킬 수 있다. 또한 생성된 플라즈마의 특성 분석 결과 플라즈마 전위도 기존 ICP에 비해 절반 수준이며, 전자 온도는 비슷하게 나타난다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한양대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2006-05-24
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.