일반기술

플라즈마 스퍼터링 장치 및 이를 이용한 반금속 산화물계 박막 제조방법

본 발명은 상기 타겟으로부터 방출되는 입자가 상기 기판 홀더에 배치된 기판 상으로 진행가능하도록 적어도 하나 이상의 홀이 마련된 도전체를 소정의 금속타겟과 기판 홀더 사이에 배치함으로써 상기 금속타겟으로부터 발생되는 금속이온과 산소의 결합을 향상시켜 반금속 산화물을 제조할 수 있는 플라즈마 스퍼터링 장치를 제공한다. 또한, 바람직한 실시형태에서는, 상기 도전체에 도전체용 전력공급부를 연결하여 추가적으로 전력을 공급하여 2차 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 이러한 플라즈마 스퍼터링 장치는 산소분해를 위한 높은 에너지를 제공할 뿐만 아니라, 추가적인 전력을 통해 서로 다른 이온가를 갖는 금속이온을 정확한 조성비로 발생시킬 수 있어 낮은 공정온도에서 반금속성 산화물을 제조하는데 매우 유용하다. 나아가, 본 발명은 상기 플라즈마 스퍼터링 장치를 이용하여 반금속성 산화물 박막을 제조하는 방법도 제공한다. 이러한 제조방법은 상기 플라즈마 스퍼터링 장치의 잇점뿐만이 아니라, Fe3O4 박막을 저온에서도 제조할 수 있으므로, 다른 자성물질과 결합하여 디바이스를 구성하는 경우에 특히 유용하게 채용될 수 있다.종래의 스퍼터링 장치의 소정의 금속타겟과 기판 홀더 사이에 상기 타겟으로부터 방출되는 입자가 상기 기판 홀더에 배치된 기판 상으로 진행가능하도록 적어도 하나 이상의 홀이 마련된 도전체를 배치함으로써, 산소분해를 향상시키고 그 분해된 산소이온과 상기 금속타겟으로부터 발생되는 서로 다른 전자가의 금속이온을 결합하여 반금속 산화물을 제조할 수 있는 플라즈마 스퍼터링 장치를 제공하는데 있다. 또한, 본 발명의 다른 목적은 상기 플라즈마 스퍼터링 장치를 이용하여 반금속성 산화물 박막을 제조하는 방법을 제공하는데 있다.