일반기술

반사형 다층 박막 미러 및 그 제조 방법

극자외선 노광 공정에 사용되는 반사형 다층 박막 미러 및 그 제조 방법을 제시한다. 반사형 다층 박막 미러는 반도체 기판 상에 루테늄층, 몰리브덴층, 스트론튬층 및 실리콘층을 순차적으로 형성한 4층 구조를 40 내지 50회 반복 적층함으로써 이루어진다. 높은 반사율을 얻기 위하여, 루테늄층과 몰리브덴층의 두께비는 루테늄층과 몰리브덴층의 두께합이 100%일 때 20%:80%~60%:40%로 설정하고, 스트론튬층과 실리콘층의 두께비는 그 합이 100%일 때 30%:70% ~ 60%:40%로 설정하며, 보다 구체적으로는 루테늄층 및 몰리브덴층의 두께는 그 합이 2.4~3.2㎚ 가 되도록 하고, 스트론튬층 및 실리콘층의 두께는 그 합이 3.6~4.4㎚ 가 되도록 한다. 이와 같은 반사형 다층 박막 미러에 의하면 다층 박막 미러의 반사율을 향상시킬 수 있어 극자외선 노광 공정에서 소자의 수율을 향상시킬 수 있다.본 발명에 의하면 차세대 노광 공정 중 하나인 극자외선 노광 기술에 쓰이는 반사형 미러를 형성함에 있어 Ru/Mo/Sr/Si층을 순차적으로 적층함으로써 반사율이 향상된 극자외선 노광 공정용 박막 미러를 얻을 수 있고, 이러한 고반사율 박막 미러를 극자외선 노광 공정용 마스크에 적용시킬 경우 소자의 수율이 향상되게 된다. 또한, Ru/Mo/Sr/Si의 4층 구조를 가진 다층 박막 미러의 최대 반사율은 극자외선 노광 공정에 사용되는 광원의 파장인 13.25㎚의 파장대에서 77.19%로서 Mo/Si 다층 박막의 반사율인 74.2%보다 높은 반사율을 보이며, 이와 같이 반사율이 향상된 다층 박막 미러를 극자외선 노광 공정에 실제로 적용할 경우 20-30%의 수율을 향상시킬 수 있다.