일반기술
질산이온 제거장치
질산이온에 오염된 수 처리시 질산이온을 제거할 수 있는 질산이온 제거를 위한 여재의 제조방법 및 질산이온 제거장치를 개시한다. 본 발명에 따르면, A) 입성 활성탄의 미분을 제거하는 단계; B) 미분이 제거된 입성 활성탄으로 증류수를 투입하여 일정 시간동안 세척하는 단계; C) 세척된 입성 활성탄을 건조시키는 단계; D) 건조된 입성 활성탄으로 염화철(FECL3) 용액을 첨가하여, 염화철 용액내로 입성 활성탄을 과포화 상태로 침적시키는 단계; 및 E) 주변의 온도를 상승시켜 상기 염화철 용액을 증발시키는 단계로 구성된 여재 제조방법을 통해 입상 활성탄에 염화철을 코팅하여 지하수, 해수, 음용수, 폐수처리에 활용하므로서, 폐수 등의 오염수에 잔재된 질산이온과 염화철의 작용면적을 증대시켜 질산이온의 흡착력을 향상시키는 효과를 얻으며, 또한 입상 활성탄의 많은 기공사이로 염화철이 코팅됨에 따라, 입상 활성탄으로 흡착되는 질산이온의 양이 증가하여 폐수처리 효과를 극대화하는 효과를 얻는다.질산이온 제거장치 (APPARATUS FOR REMOVING NITRATE)질산이온에 오염된 수 처리시 질산이온을 제거할 수 있는 질산이온 제거를 위한 여재의 제조방법 및 질산이온 제거장치를 개시한다. A) 건조된 입성 활성탄으로 염화철(FECL3) 용액을 첨가하여, 상기 염화철 용액내로 상기 입성 활성탄을 과포화 상태로 침적시키는 단계; 및B 주변의 온도를 상승시켜 상기 염화철 용액을 증발시키는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 질산이온 제거를 위한 여재의 제조방법.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 화학공정
- 보유기관
- 조선대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2006-06-12
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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