일반기술

PS 판용 아크릴레이트계 감광재료

* 원리 및 구성본 기술은 평판 인쇄판(PS판)용 아크릴 계통의 폴리머를 이용한 감광 재료에 관한 것으로서 아크릴 계통의 2원 공중합체를 기본적인 수지로 사용하고 여기에 디아조퀴논 설포닐 클로라이드를 직접 주사슬에 붙여 감광액으로 사용한 것을 특징으로 하며, 이때 사용되어진 폴리머는 그 분자량에 따라 3원 공중합체의 형태를 가지고 있다. 본 기술에 의한 감광액은 첫째로 PS판용 감광재료로써 용매에 대한 용해도, 감도 및 해상도가 뛰어나며 우수한 망점 재현성, 현상성을 보여주고 둘째로 우수한 망점보존성으로 인해 기존의 노블락 수지보다 50000부 이상의 인쇄가 가능하며 생산단가가 저렴하다.* 특징본 기술의 목표로 하고있는 광 응답성 고분자는 평판인쇄용 양각형태의 감광물질로서 고분자의 주 사슬에 퀴논디아자이드 그룹을 도입하여 UV 특성 파장대에서 감광 특성을 갖는다. 즉 노광 부위와 비 노광 부위의 알칼리 현상액에 대한 용해도의 차이로 인해 원하는 화상을 형성할 수 있다. * 목적 및 장점본 기술의 목적은 디아조나프토 퀴논을 도입한 향상된 양각형의 감광성 아크릴 계통의 올리고머 또는 폴리머를 합성하는 것이다. 이에 알맞는 공중합체를 합성하기 위하여 테트라하이드로퍼푸릴 메타크릴레이트와 하이드록실에틸 메타크릴레이트를 사용하였으며 이 합성된 폴리머에 디아조나프토퀴논 설포닐클로라이드를 도입하여 에스테르화 시켰다. PS용으로 합성된 광응답성 공중합체가 짧은 노광시간과 빠른 현상성을 갖기 위해서는 분자량이 5000 - 50000 정도가 적합하며, 더 좋게는 분자량 15000이하가 적합하다 이러한 형태의 공중합체는 부가되는 광증감제 없이 좋은 현상성을 나타낼 것으로 기대되어진다. 또한 본 기술에 사용된 아크릴계통의 공중합체는 아크릴특유의 기계적강도와 좋은 해상도로 인해 15만부 이상의 인쇄력과 2㎛ 이하의 망점 재현성을 갖는다.* 적용응용분야 및 시장성감광성 수지 조성물은 PS판, 인쇄회로기판, 미세화상용 포토레지스트 등의 제조시에 화상 형성 재료로서 사용되어질 때 유용하다. 종래의 감광성 수지의 경우 망점의 크기가 수 미크론 이하로 내려가면서 망점둘레 부분의 현상성이 나빠져 해상도가 저하되고 노블락 계열의 수지는 기계적 강도가 100000부정도의 인쇄에 적합하다는 문제가 있는데 반해 본 발명은 PS판용 감광재료로써 용매에 대한 용해도, 감도 및 해상도가 뛰어나며 우수한 망점 재현성, 현상성을 보여준다. 또한 우수한 망점보존성으로 인해 기존의 노블락 수지보다 50000부 이상의 인쇄가 가능하며 생산단가가 저렴하다는 등의 시장성을 갖는다.