일반기술

용질 공확산법에 의하여 제조된 구형 고분자 마이크로캡슐 및 제조 방법

본 발명은 용질 공확산법(본 발명자가 명함)을 이용하여 구형 고분자 마이크로캡슐을 제조하는 방법에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 0.1~1 중량%의 분산안정제가 녹아있는 수용액에 고분자 입자를 분산시키는 1단계; 상기 1단계에서 제조된 분산액에 0.1~1 중량%의 유화제를 이용하여 용질을 포함하는 용매 에멀젼을 제조하여 첨가하는 2단계; 상기 용매 에멀젼을 고분자 입자에 완벽하게 팽윤시키는 3 단계; 팽윤이 종결된 후 고분자/용질/용매 액적에서 완벽하게 용매만 선택적으로 제거하는 4단계로 이루어져 있다. 본 발명에서 제안하는 용질 공확산법은 미크론크기의 고분자 캡슐을 제조할 수 있는 신기술로서 용질의 포집률을 팽윤도에 따라 임의로 조절할 수 있을 뿐만 아니라, 기존 방법보다 사용되는 용매의 량이 극히 적어 용매 제거 과정이 용이하다는 큰 장점을 지니고 있어, 다양한 고분자 캡슐의 제조에 매우 유용하게 적용될 수 있을 것으로 예상된다.이에 따라 초고진공 설비에 비해 저가이면서 유지비가 적게 들어 산업화가 가능하고 또한 초미립 금속분말 제조방법에 제약을 받지 않고 초미립 금속분말의 산화오염 없이 제품을 제조할 수 있는 효과가 있다.고분자 입자를 분산안정제가 0.1～1중량% 녹아있는 수용액에 서서히 교반시키면 완전히 재분산시킨다. 본 발명에 적용되는 고분자 입자는 구조, 형태, 크기, 제조방법에 관계없어 현존하는 모든 고분자 구형체를 포함한다. 구체적으로는 라디칼 혹은 이온 개시에 의하여 중합된 아크릴 혹은 비닐 고분자 입자, 용매 침적에 의하여 제조된 올레핀 고분자 입자, 용매침적에 의하여 제조된 엔지니어링 고분자 입자, 금속 혹은 무기 입자에 표면 처리된 금속/고분자 복합입자 혹은 무기/고분자 복합입자 등을 들 수 있는데, 전체 함량에 대비 10～50중량%가 적절하다. 한편, 본 발명에서 사용되는 분산 안정제는 수상에 녹을 수 있는 고분자로서, 구체적으로는 젤라틴, 스타치, 잔탄검, 소듐 폴리아크릴레이트, 히드록시에틸셀룰로오즈, 카복시메틸셀룰로오즈, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐 알킬 에테르, 폴리비닐 알콜, 친수성기를 주쇄에 지니고 있는 랜덤 혹은 블록공중합체 등이 포함된다.본 발명에서 사용되는 용매는 고분자 입자에 대해서 뛰어난 상용성을 지니고 용질에 대하여 우수한 용해력을 보여야만 한다. 부수적으로, 물에 대하여 0.03～3중량% 정도의 용해력을 지니는 용매가 물에서 높은 확산력을 지니기 때문에 본 용질 공확산법에서는 매우 적절하다. 최종 용매 제거 단계에서 증발법을 적용할 경우에는 끓는점이 10～60℃ 정도로 낮은 메틸렌클로라이드, 클로로포름, 카본 테트라클로라이드 류의 클로리네이티드 용매, 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 디부틸 에테르 류의 에테르, 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, 이소프로필 아세테이트 류의 에스테르, 등을 포함하는 휘발성 용매가 적용된다. 또한 최종 용매 제거 단계에서 용매 교환법을 적용할 경우에는 펜탄, 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 류의 히드로카본과 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 디메틸설폭시드, 고분자 단량체 등을 포함하는 모든 용매가 적용된다.